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1. (WO2019009477) DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING IMPEDANCE MATCHING FOR VERY HIGH FREQUENCY TREATMENT DEVICE
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国際公開番号: WO/2019/009477 国際出願番号: PCT/KR2017/014065
国際公開日: 10.01.2019 国際出願日: 04.12.2017
IPC:
A61N 1/08 (2006.01) ,A61N 1/06 (2006.01) ,A61N 1/40 (2006.01) ,A61N 7/00 (2006.01) ,A61N 7/02 (2006.01)
A 生活必需品
61
医学または獣医学;衛生学
N
電気治療;磁気治療;放射線治療;超音波治療
1
電気治療;そのための回路
02
細部
08
監視,保護,制御または表示のための装置または回路
A 生活必需品
61
医学または獣医学;衛生学
N
電気治療;磁気治療;放射線治療;超音波治療
1
電気治療;そのための回路
02
細部
04
電極
06
高周波治療のためのもの
A 生活必需品
61
医学または獣医学;衛生学
N
電気治療;磁気治療;放射線治療;超音波治療
1
電気治療;そのための回路
40
誘導または容量結合による電界の適用
A 生活必需品
61
医学または獣医学;衛生学
N
電気治療;磁気治療;放射線治療;超音波治療
7
超音波治療
A 生活必需品
61
医学または獣医学;衛生学
N
電気治療;磁気治療;放射線治療;超音波治療
7
超音波治療
02
局所的な超音波ハイパーサーミア
出願人:
대양의료기(주) DAEYANG MEDICAL CO.,LTD. [KR/KR]; 강원도 원주시 문막읍 동화공단로 147 147, Donghwagongdan-ro, Munmak-eup Wonju-si Gangwon-do 26365, KR
発明者:
윤정섭 YUN, Jeong Sub; KR
김원기 KIM, Won Ky; KR
김명선 KIM, Myoung Sun; KR
전세훈 JEON, Se Hoon; KR
代理人:
최호석 CHOI, Ho Suk; KR
優先権情報:
10-2017-008548905.07.2017KR
10-2017-008549605.07.2017KR
10-2017-015551921.11.2017KR
発明の名称: (EN) DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING IMPEDANCE MATCHING FOR VERY HIGH FREQUENCY TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE COMMANDE D'ADAPTATION D'IMPÉDANCE POUR UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT À TRÈS HAUTE FRÉQUENCE
(KO) 초단파 치료 장치용 임피던스 매칭 제어 장치 및 그 방법
要約:
(EN) The present invention relates to a device and method for controlling impedance matching for a very high frequency treatment device and, more particularly, to a device for controlling impedance matching for a very high frequency treatment device, wherein the device for controlling impedance matching is provided in a very high frequency treatment device comprising a very high frequency emitter for emitting a very high frequency on the skin, and comprises a first variable capacitor for measuring impedance within the very high frequency treatment device and a second variable capacitor for measuring impedance within the body of a person receiving treatment. The present invention enables impedance matching between impedance within a very high frequency treatment device and impedance within the body of a person receiving treatment, and thus can efficiently transfer energy to the skin when a very high frequency treatment is performed, and stably maintain an output of a very high frequency.
(FR) La présente invention concerne un dispositif et un procédé pour commander une adaptation d'impédance pour un dispositif de traitement à très haute fréquence et, plus particulièrement, un dispositif pour commander une adaptation d'impédance pour un dispositif de traitement à très haute fréquence, le dispositif de commande d'adaptation d'impédance étant prévu dans un dispositif de traitement à très haute fréquence comprenant un émetteur de très haute fréquence pour émettre une très haute fréquence sur la peau, et comprend un premier condensateur variable pour mesurer l'impédance à l'intérieur du dispositif de traitement à très haute fréquence et un second condensateur variable pour mesurer l'impédance à l'intérieur du corps d'une personne recevant un traitement. La présente invention permet une adaptation d'impédance entre l'impédance à l'intérieur d'un dispositif de traitement à très haute fréquence et l'impédance à l'intérieur du corps d'une personne recevant un traitement, et permet ainsi de transférer efficacement de l'énergie à la peau lorsqu'un traitement à très haute fréquence est effectué, et de maintenir de manière stable une sortie de très haute fréquence.
(KO) 본 발명은 초단파 치료 장치용 임피던스 매칭 제어 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 초단파를 피부에 조사하는 초단파 방출기를 포함한 초단파 치료 장치에 구비되되, 초단파 치료 장치 내 임피던스를 측정하기 위한 제1 가변 콘덴서 및 피시술자의 신체 내 임피던스를 측정하기 위한 제2 가변 콘덴서를 포함하는 초단파 치료 장치용 임피던스 매칭 제어 장치에 있어서, 초단파 치료 장치 내 임피던스와 피시술자의 신체 내 임피던스를 매칭시켜 초단파 치료 시 에너지를 효율적으로 피부에 전달하고, 초단파의 출력을 안정적으로 유지할 수 있도록 한다.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 韓国語 (KO)
国際出願言語: 韓国語 (KO)