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1. (WO2019009111) 半導体装置およびその製造方法
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国際公開番号: WO/2019/009111 国際出願番号: PCT/JP2018/023925
国際公開日: 10.01.2019 国際出願日: 25.06.2018
IPC:
H01L 21/338 (2006.01) ,H01L 21/28 (2006.01) ,H01L 29/417 (2006.01) ,H01L 29/778 (2006.01) ,H01L 29/812 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
334
ユニポーラ型の装置の製造のための多段階工程
335
電界効果トランジスタ
338
ショットキーゲートを有するもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
28
21/20~21/268に分類されない方法または装置を用いる半導体本体上への電極の製造
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
40
電極
41
その形状,相対的大きさまたは配置に特徴のあるもの
417
整流,増幅またはスイッチされる電流を流すもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
66
半導体装置の型
68
整流,増幅またはスイッチされる電流を流さない電極に電流のみまたは電位のみを与えることにより制御できるもの
76
ユニポーラ装置
772
電界効果トランジスタ
778
二次元電荷担体ガスチャンネルをもつもの,例.HEMT
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
66
半導体装置の型
68
整流,増幅またはスイッチされる電流を流さない電極に電流のみまたは電位のみを与えることにより制御できるもの
76
ユニポーラ装置
772
電界効果トランジスタ
80
PN接合ゲートまたは他の整流接合ゲートによって生じる電界効果を有するもの
812
ショットキーゲートを有するもの
出願人:
パナソニックIPマネジメント株式会社 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区城見2丁目1番61号 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207, JP
発明者:
神田 裕介 KANDA Yusuke; --
大来 英之 OKITA Hideyuki; --
柳原 学 YANAGIHARA Manabu; --
原田 剛史 HARADA Takeshi; --
代理人:
鎌田 健司 KAMATA Kenji; JP
前田 浩夫 MAEDA Hiroo; JP
優先権情報:
2017-13345407.07.2017JP
発明の名称: (EN) SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 半導体装置およびその製造方法
要約:
(EN) This semiconductor device (100) is provided with a substrate (101), a first nitride semiconductor layer (103) that is formed above the substrate (101), a second nitride semiconductor layer (104) that is formed on the first nitride semiconductor layer (103), an ohmic electrode (106) that is formed above the substrate (101), and a contact layer (105) that is in contact with at least a part of the ohmic electrode (106) and contains silicon and chlorine. The band gap of the second nitride semiconductor layer (104) is larger than the band gap of the first nitride semiconductor layer (103); a two-dimensional electron gas channel is formed on the first nitride semiconductor layer (103) side of the heterointerface between the first nitride semiconductor layer (103) and the second nitride semiconductor layer (104); and at least the peak value of the silicon concentration is higher than the peak value of the chlorine concentration in the contact layer (105).
(FR) La présente invention concerne un dispositif semi-conducteur (100) qui comporte un substrat (101), une première couche semi-conductrice au nitrure (103) qui est formée au-dessus du substrat (101), une deuxième couche semi-conductrice au nitrure (104) qui est formée sur la première couche semi-conductrice au nitrure (103), une électrode ohmique (106) qui est formée au-dessus du substrat (101), et une couche de contact (105) qui est en contact avec au moins une partie de l’électrode ohmique (106) et qui contient du silicium et du chlore. La bande interdite de la deuxième couche semi-conductrice au nitrure (104) est supérieure à la bande interdite de la première couche semi-conductrice au nitrure (103) ; un canal bidimensionnel de gaz d’électrons est formé du côté de la première couche semi-conductrice au nitrure (103) de l’hétéro-interface entre la première couche semi-conductrice au nitrure (103) et la deuxième couche semi-conductrice au nitrure (104) ; et au moins la valeur de crête de la concentration en silicium est supérieure à la valeur de crête de la concentration en chlore dans la couche de contact (105).
(JA) 半導体装置(100)は、基板(101)と、基板(101)の上方に形成された第1の窒化物半導体層(103)と、第1の窒化物半導体層(103)の上に形成された第2の窒化物半導体層(104)と、基板(101)の上方に形成されたオーミック電極(106)と、少なくともオーミック電極(106)の一部に接し、ケイ素および塩素を含むコンタクト層(105)とを備え、第2の窒化物半導体層(104)のバンドギャップは、第1の窒化物半導体層(103)のバンドギャップより大きく、第1の窒化物半導体層(103)と第2の窒化物半導体層(104)とのヘテロ界面の第1の窒化物半導体層(103)側には、2次元電子ガスチャネルが形成され、コンタクト層(105)において、少なくともケイ素濃度のピーク値は、塩素濃度のピーク値よりも高い。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)