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1. (WO2019009063) 光造形用組成物
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国際公開番号: WO/2019/009063 国際出願番号: PCT/JP2018/023293
国際公開日: 10.01.2019 国際出願日: 19.06.2018
IPC:
C08F 2/44 (2006.01) ,B29C 64/106 (2017.01) ,B29C 64/124 (2017.01) ,B33Y 70/00 (2015.01) ,C08K 3/34 (2006.01) ,C08L 33/00 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
44
配合成分,例.可塑剤,染料,充填剤,の存在下における重合
[IPC code unknown for B29C 64/106][IPC code unknown for B29C 64/124][IPC code unknown for B33Y 70]
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
K
無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用(ペイント,インキ,ワニス,染料,艶出剤,接着剤C09)
3
無機配合成分の使用
34
けい素含有化合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
33
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,またはその塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
出願人:
株式会社エンプラス ENPLAS CORPORATION [JP/JP]; 埼玉県川口市並木2丁目30番1号 30-1, Namiki 2-chome, Kawaguchi-shi, Saitama 3320034, JP
発明者:
上本 紘平 JOHMOTO, Kohei; JP
石田 毅一郎 ISHIDA, Kiichiro; JP
小橋 一輝 KOBASHI, Itsuki; JP
代理人:
特許業務法人大貫小竹国際特許事務所 OHNUKI & KOTAKE; 東京都千代田区神田須田町二丁目25番地 山崎須田町ビル5階 Yamasakisudacho-Building 5th floor, 25, Kandasudacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041, JP
優先権情報:
2017-13210105.07.2017JP
2018-09198611.05.2018JP
発明の名称: (EN) PHOTOSHAPING COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE PHOTOFORMAGE
(JA) 光造形用組成物
要約:
(EN) [Problem] To provide a photoshaping composition which can give a shaped object having heightened mechanical properties in high-temperature environments and which can have a sufficiently low viscosity during shaping. [Solution] A photoshaping composition which comprises a photocurable resin and a phyllosilicate compound. It is preferred that the phyllosilicate compound is selected from the group consisting of mica, talc, silica, and mixtures of two or more of these. The photoshaping composition can give a shaped object which, in a high-temperature environment, has a storage modulus of 2,400 MPa or greater. During shaping, the photoshaping composition can have a viscosity less than 1,800 mPa∙s.
(FR) L'invention a pour objet une composition de photoformage qui permet d'obtenir un objet mis en forme ayant des propriétés mécaniques accrues dans des environnements à haute température et qui peut avoir une viscosité suffisamment faible pendant le formage. À et effet l'invention porte sur une composition de photoformage qui comprend une résine photodurcissable et un composé phyllosilicate. Il est préférable que le composé phyllosilicate soit choisi dans le groupe constitué par le mica, le talc, la silice et les mélanges de deux ou plus de deux de ceux-ci. La composition de photoformage permet d'obtenir un objet mis en forme qui, dans un environnement à haute température, a un module de conservation supérieur ou égal à 2 400 MPa. Pendant le formage, la composition de photoformage peut avoir une viscosité inférieure à 1800 mPa∙s.
(JA) 【課題】造形物において高温環境下での機械的物性を高くでき、且つ、造形時においては、粘度を十分に低くすることが可能な光造形用組成物を提供する。 【解決手段】光造形用組成物は、光硬化性樹脂と、層状ケイ酸塩化合物と、を含む。層状ケイ酸塩化合物としては、マイカ、タルク、シリカ、及び、これらを組み合わせた混合物からなる群から選択するとよい。造形物の高温環境下において、貯蔵弾性率を2400MPa以上とすることができ、また、造形時において、粘度を1800mPa・s未満とすることが可能となる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)