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1. (WO2019008738) 電界放出型電子源および荷電粒子線装置
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国際公開番号: WO/2019/008738 国際出願番号: PCT/JP2017/024942
国際公開日: 10.01.2019 国際出願日: 07.07.2017
IPC:
H01J 37/073 (2006.01) ,H01J 1/304 (2006.01) ,H01J 1/46 (2006.01) ,H01J 9/02 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
06
電子源;電子銃
073
電界放出,光電子放出,または2次電子放出による電子源を用いる電子銃
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
1
電子管または放電ランプの2以上の基本的な型に共通な電極,磁気制御手段,スクリーンあるいはそれらのマウントまたは間隔保持の細部
02
主電極
30
冷陰極
304
電界放射陰極
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
1
電子管または放電ランプの2以上の基本的な型に共通な電極,磁気制御手段,スクリーンあるいはそれらのマウントまたは間隔保持の細部
46
制御電極,例.グリッド;補助電極
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
9
電子管,放電ランプまたはその部品の製造に特に適用される装置または方法;電子管または放電ランプからの材料の回収
02
電極または電極システムの製造
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
06
電子源;電子銃
出願人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
武居 亜紀 TAKEI Aki; JP
片桐 創一 KATAGIRI Souichi; JP
松永 宗一郎 MATSUNAGA Soichiro; JP
川野 源 KAWANO Hajime; JP
土肥 隆 DOI Takashi; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) FIELD EMISSION-TYPE ELECTRON SOURCE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) SOURCE D'ÉLECTRONS DU TYPE À ÉMISSION DE CHAMP ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 電界放出型電子源および荷電粒子線装置
要約:
(EN) Provided are: a field emission-type electron source with which the influence of an electric field can be suppressed and stable long-term emission characteristics can be obtained even when a diffusion supply source is disposed close to the tip of a needle-like electrode; and a charged particle beam device using the same. According to the present invention, a suppressor electrode 4 is disposed to cover a filament 3 and the needle-like electrode 1 excluding a portion, of the needle-like electrode 1, protruding from an opening part 5 of the suppressor electrode 4, and a diffusion supply source 9 for supplying zirconia that is diffused onto the surface of the needle-like electrode 1 is formed around the needle-like electrode 1, wherein the diffusion supply source 9 has a thickness of 10 μm or more in at least the portion covered by the suppressor electrode 4, and has a thickness of 100 nm or more in the portion protruding from the opening part 5.
(FR) L'invention concerne : une source d'électrons du type à émission de champ avec laquelle l'influence d'un champ électrique peut être supprimée et des caractéristiques d'émission à long terme stables peuvent être obtenues même lorsqu'une source d'alimentation en diffusion est disposée à proximité de la pointe d'une électrode du type aiguille ; et un dispositif à faisceau de particules chargées l'utilisant. Selon la présente invention, une électrode de suppression (4) est disposée pour recouvrir un filament (3) et l'électrode du type aiguille (1) à l'exclusion d'une partie, de l'électrode du type aiguille (1), faisant saillie à partir d'une partie d'ouverture (5) de l'électrode de suppression (4), et une source d'alimentation en diffusion (9) permettant de fournir de la zircone qui est diffusée sur la surface de l'électrode du type aiguille (1) est formée autour de l'électrode du type aiguille (1), la source d'alimentation en diffusion (9) présentant une épaisseur de 10 µm ou plus dans au moins la partie recouverte par l'électrode de suppression (4) et présente une épaisseur de 100 nm ou plus dans la partie faisant saillie à partir de la partie d'ouverture (5).
(JA) 拡散供給源を針状電極の先端により近くに配置しても電場の影響の影響を抑え、安定した長期エミッション特性が得られる電界放出型電子源およびそれを用いた荷電粒子線装置を提供する。サプレッサ電極4の開口部5より突き出した針状電極1の部分を除いて、フィラメント3及び針状電極1を覆うようにサプレッサ電極4が配置され、針状電極1の周りには、その表面に拡散されるジルコニアを供給する拡散供給源9が形成されており、拡散供給源9は、少なくともサプレッサ電極4に覆われた部分においては10μm以上の厚さを有し、開口部5より突き出した部分においては100nm以上の厚さを有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)