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1. (WO2019005157) PERPENDICULAR SPIN TRANSFER TORQUE MEMORY (PSTTM) DEVICES WITH ENHANCED STABILITY AND HIGH TUNNELING MAGNETORESISTANCE RATIO AND METHODS TO FORM THE SAME
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国際公開番号: WO/2019/005157 国際出願番号: PCT/US2017/040496
国際公開日: 03.01.2019 国際出願日: 30.06.2017
IPC:
H01L 43/10 (2006.01) ,H01L 43/08 (2006.01) ,H01L 43/12 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
43
電流磁気効果またはこれに類似な磁気効果を利用した装置;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
10
材料の選択
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
43
電流磁気効果またはこれに類似な磁気効果を利用した装置;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
08
磁界制御抵抗
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
43
電流磁気効果またはこれに類似な磁気効果を利用した装置;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
12
これらの装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
出願人:
WIEGAND, Christopher J. [US/US]; US
RAHMAN, Tofizur [BD/US]; US
OUELLETTE, Daniel G. [US/US]; US
SMITH, Angeline K. [US/US]; US
BROCKMAN, Justin S. [US/US]; US
O'BRIEN, Kevin P. [US/US]; US
OGUZ, Kaan [TR/US]; US
DOCZY, Mark L. [US/US]; US
DOYLE, Brian S. [IE/US]; US
GOLONZKA, Oleg [US/US]; US
ALZATE VINASCO, Juan G. [CO/US]; US
INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054, US
発明者:
WIEGAND, Christopher J.; US
RAHMAN, Tofizur; US
OUELLETTE, Daniel G.; US
SMITH, Angeline K.; US
BROCKMAN, Justin S.; US
O'BRIEN, Kevin P.; US
OGUZ, Kaan; US
DOCZY, Mark L.; US
DOYLE, Brian S.; US
GOLONZKA, Oleg; US
ALZATE VINASCO, Juan G.; US
代理人:
BRASK, Justin, K.; US
優先権情報:
発明の名称: (EN) PERPENDICULAR SPIN TRANSFER TORQUE MEMORY (PSTTM) DEVICES WITH ENHANCED STABILITY AND HIGH TUNNELING MAGNETORESISTANCE RATIO AND METHODS TO FORM THE SAME
(FR) DISPOSITIFS DE MÉMOIRE DE COUPLE DE TRANSFERT DE SPIN PERPENDICULAIRE (PSTTM) À STABILITÉ AMÉLIORÉE ET À TAUX DE MAGNÉTORÉSISTANCE ÉLEVÉE À EFFET TUNNEL, ET LEURS PROCÉDÉS DE FORMATION
要約:
(EN) A memory device includes a bottom electrode disposed above a substrate, a fixed magnet disposed above the bottom electrode, a tunnel barrier including a magnesium oxide disposed on the fixed magnet, a free magnet on the tunnel barrier, a cap oxide layer disposed on the free magnet, a follower magnet disposed on the oxide layer and a metallic cap disposed on the follower magnet. The metallic cap includes a metal such as Hf, W and Ta and further includes a trace amounts of an inert gas. One or more conductive nano-channels extend from the metallic cap through the free magnet and into the oxide layer, where each of the one or more conductive nano-channels include the material of the metallic cap. The memory device further includes an etch stop layer disposed on the metallic cap and a top electrode disposed on the etch stop layer.
(FR) L'invention concerne un dispositif de mémoire qui comprend une électrode inférieure, disposée au-dessus d'un substrat, un aimant fixe, disposé au-dessus de l'électrode inférieure, une barrière tunnel, comprenant un oxyde de magnésium disposé sur l'aimant fixe, un aimant libre sur la barrière tunnel, une couche d'oxyde de couverture, disposée sur l'aimant libre, un aimant suiveur, disposé sur la couche d'oxyde et un capuchon métallique, disposé sur l'aimant suiveur. Le capuchon métallique comprend un métal tel que Hf, W et Ta et comprend en outre des quantités à l'état de trace d'un gaz inerte. Un ou plusieurs nanocanaux conducteurs s'étendent à partir du capuchon métallique à travers l'aimant libre et dans la couche d'oxyde, chacun du ou des nanocanaux conducteurs comprenant le matériau du capuchon métallique. Le dispositif de mémoire comprend en outre une couche d'arrêt de gravure, disposée sur le capuchon métallique, et une électrode supérieure, disposée sur la couche d'arrêt de gravure.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)