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1. (WO2019003827) 成膜装置、マスクフレーム、アライメント方法
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国際公開番号: WO/2019/003827 国際出願番号: PCT/JP2018/021552
国際公開日: 03.01.2019 国際出願日: 05.06.2018
IPC:
C23C 14/54 (2006.01) ,C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
54
被覆工程の制御または調整(制御または調整一般G05)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP/JP]; 神奈川県茅ケ崎市萩園2500 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
発明者:
高橋 誠 TAKAHASHI Makoto; JP
清水 豪 SHIMIZU Tsuyoshi; JP
吉田 大介 YOSHIDA Daisuke; JP
湯山 明 YUYAMA Akira; JP
佐藤 雄亮 SATOU Yusuke; JP
代理人:
及川 周 OIKAWA Shu; JP
勝俣 智夫 KATSUMATA Tomoo; JP
土屋 亮 TSUCHIYA Ryo; JP
優先権情報:
2017-12946630.06.2017JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING DEVICE, MASK FRAME, AND ALIGNMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM, CADRE DE MASQUE ET PROCÉDÉ D’ALIGNEMENT
(JA) 成膜装置、マスクフレーム、アライメント方法
要約:
(EN) This film forming device has a mask alignment means for aligning substantially perpendicularly retained mask frame with respect to a substrate for film formation in a chamber, the mask alignment means having engaging parts provided at both ends of a bottom surface of the mask frame, supporting alignment parts provided to lower parts of both ends in a film formation position of the mask frame and configured so as to be capable of supporting the mask frame and capable of alignment by engaging with the engaging parts, and an upper-part alignment part in which the position thereof on a top side of the mask frame can be set in the direction orthogonal to the plane of the mask frame and whereby the mask frame can be supported and released, and the mask alignment means making it possible for the mask frame to be aligned with six degrees of freedom including three axial directions and three rotation directions about the axes of the three axial directions, the axial directions being two directions parallel to the plane of the mask frame and an orthogonal direction orthogonal to the plane of the mask frame.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de formation de film qui comporte un moyen d’alignement de masque pour aligner sensiblement un cadre de masque retenu perpendiculairement à un substrat pour la formation de film dans une chambre, le moyen d’alignement de masque comportant des parties de mise en prise disposées aux deux extrémités d’une surface inférieure du cadre de masque, des parties d’alignement de support disposées sur des parties inférieures des deux extrémités dans une position de formation de film du cadre de masque et configurées de façon à pouvoir soutenir le cadre de masque et capables d’alignement par mise en prise avec les parties de mise en prise, et une partie d’alignement de partie supérieure dans laquelle la position de celle-ci sur un côté supérieur du cadre de masque peut être ajustée dans la direction orthogonale au plan du cadre de masque et de sorte que le cadre de masque puisse être soutenu et libéré, et le moyen d’alignement de masque permettant que le cadre de masque soit aligné avec six degrés de liberté comprenant trois directions axiales et trois directions de rotation autour des axes des trois directions axiales, les directions axiales étant deux directions parallèles au plan du cadre de masque et une direction orthogonale qui est orthogonale au plan du cadre de masque.
(JA) 本発明の成膜装置は、チャンバ内で成膜する基板に対し、略垂直保持されたマスクフレームをアライメントするマスクアライメント手段を有し、前記マスクアライメント手段が、前記マスクフレームの下面における両端に設けられた係合部と、前記マスクフレームの成膜位置における両端の下部に設けられて前記マスクフレームを支持可能とされるとともに前記係合部に係合してアライメント可能とされる支持アライメント部と、前記マスクフレームの上側の位置を、前記マスクフレームの面に直交する方向に設定可能として、前記マスクフレームを支持及び解放可能な上部アライメント部と、を有し、前記マスクアライメント手段によって、前記マスクフレームの前記面に平行な2方向及び前記マスクフレームの前記面に直交する直交方向の3つの軸方向と、前記3つの軸方向の軸線周りの3つの回転方向とによる6自由度にて、前記マスクフレームがアライメント可能とされる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)