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1. (WO2019003677) 研削装置および研削方法
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国際公開番号: WO/2019/003677 国際出願番号: PCT/JP2018/018732
国際公開日: 03.01.2019 国際出願日: 15.05.2018
IPC:
H01L 21/205 (2006.01) ,B24B 7/18 (2006.01) ,B24B 27/033 (2006.01) ,C23C 16/44 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
20
基板上への半導体材料の析出,例.エピタキシャル成長
205
固体を析出させるガス状化合物の還元または分解を用いるもの,すなわち化学的析出を用いるもの
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
7
平担なガラス面の研磨を含む工作物の平面を研削するために設計された機械または装置;そのための附属装置
10
専用機械または専用装置
18
床,壁,天井または類似のものを研削するもの
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
27
その他の研削機械または装置
033
清浄のために表面を研削するもの,例.表面のきずを掃除または研削するもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
出願人:
昭和電工株式会社 SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 東京都港区芝大門一丁目13番9号 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518, JP
発明者:
深田 啓介 FUKADA Keisuke; JP
石橋 直人 ISHIBASHI Naoto; JP
代理人:
及川 周 OIKAWA Shu; JP
荒 則彦 ARA Norihiko; JP
勝俣 智夫 KATSUMATA Tomoo; JP
優先権情報:
2017-12927830.06.2017JP
発明の名称: (EN) GRINDING APPARATUS AND GRINDING METHOD
(FR) APPAREIL DE MEULAGE ET PROCÉDÉ DE MEULAGE
(JA) 研削装置および研削方法
要約:
(EN) A grinding apparatus (100) of the present invention has: a susceptor (101) for a film-forming substrate arranged inside a film formation chamber (11); a grinding member (102) configured by a flat plate-shaped base (102A) and a protruding part (102B) formed on the surface thereof; a conveyance means (103) for conveying the grinding member (102) to be mounted on the susceptor (101); and a rotation means (104) for rotating the susceptor (101) around a central axis (101c). So that one main surface of the base (102A) faces opposite the susceptor (101), in a state with the grinding member (102) mounted on the susceptor (101), when the susceptor (101) and the grinding member (102) are seen in plan view, the outermost peripheral part of the grinding member (102) is at the outside of the outermost peripheral part of the susceptor (101).
(FR) Un appareil de meulage (100) de la présente invention comprend : un suscepteur (101) pour un substrat de formation de film disposé à l'intérieur d'une chambre de formation de film (11); un élément de meulage (102) configuré par une base en forme de plaque plate (102A) et une partie en saillie (102B) formée sur sa surface; un moyen de transport (103) pour transporter l'élément de meulage (102) à monter sur le suscepteur (101); et un moyen de rotation (104) pour faire tourner le suscepteur (101) autour d'un axe central (101c). De telle sorte qu'une surface principale de la base (102A) fait face au suscepteur (101), dans un état avec l'élément de meulage (102) monté sur le suscepteur (101), lorsque le suscepteur (101) et l'élément de meulage (102) sont vus en vue en plan, la partie périphérique la plus à l'extérieur de l'élément de meulage (102) se trouve à l'extérieur de la partie périphérique la plus à l'extérieur du suscepteur (101).
(JA) 本発明の研削装置(100)は、成膜室(11)内に配される被成膜基板用のサセプタ(101)と、平板状の基部(102A)とその表面に形成された凸部(102B)とで構成される研削部材(102)と、研削部材(102)を、サセプタ(101)に載置されるように搬送する搬送手段(103)と、サセプタ(101)を中心軸(101c)の周りに回転させる回転手段(104)と、を有し、基部(102A)の片方の主面がサセプタ(101)と対向するように、研削部材(102)がサセプタ(101)に載置された状態において、サセプタ(101)および研削部材(102)を平面視した場合に、研削部材(102)の最外周部が、サセプタ(101)の最外周部の外側にある。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)