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1. (WO2019003605) 真空蒸着用のマスクの洗浄方法及びリンス組成物
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国際公開番号: WO/2019/003605 国際出願番号: PCT/JP2018/016296
国際公開日: 03.01.2019 国際出願日: 20.04.2018
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,C11D 7/28 (2006.01) ,C11D 7/50 (2006.01) ,C23C 14/00 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
C 化学;冶金
11
動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D
洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
7
本質的に非表面活性化合物を基とする洗浄剤組成物
22
有機化合物
28
ハロゲンを含むもの
C 化学;冶金
11
動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D
洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
7
本質的に非表面活性化合物を基とする洗浄剤組成物
50
溶剤
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
AGC株式会社 AGC INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
発明者:
三木 寿夫 MIKI Toshio; JP
花田 毅 HANADA Tsuyoshi; JP
代理人:
特許業務法人サクラ国際特許事務所 SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; 東京都千代田区内神田一丁目18番14号 ヨシザワビル Yoshizawa Bldg., 18-14, Uchikanda 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047, JP
優先権情報:
2017-12408626.06.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR WASHING MASK FOR VACUUM VAPOR DEPOSITION AND RINSING COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ POUR LE LAVAGE DE MASQUE POUR LE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR SOUS VIDE ET COMPOSITION DE RINÇAGE
(JA) 真空蒸着用のマスクの洗浄方法及びリンス組成物
要約:
(EN) Provided is a method for washing a mask for vacuum vapor deposition, the method comprising washing a mask by using a washing composition that contains at least one selected from N-methyl-2-pyrrolidinone and N,N-dimethylformamide, and then rinsing the washed mask by using a rinsing composition containing at least one type of a hydro fluoro ether selected from among HFE-347pc-f, HFE-254pc, HFE-356pcf, and HFE-449mec-f. According to this washing method, when rinsing off the washing composition during washing of the mask that has been used in a vacuum vapor deposition process in the manufacturing of an organic EL element, it is possible to wash the mask so as to be extremely clean without resulting in decomposition of an active ingredient.
(FR) L'invention concerne un procédé pour le lavage d'un masque pour le dépôt en phase vapeur sous vide, le procédé comprenant le lavage d'un masque à l'aide d'une composition de lavage qui contient au moins un composant choisi entre la N-méthyl-2-pyrrolidinone et le N,N-diméthylformamide, puis le rinçage du masque lavé à l'aide d'une composition de rinçage contenant au moins un type d'un éther hydrofluoré choisi entre HFE-347pc-f, HFE-254pc, HFE-356pcf et HFE-449mec-f. Selon ce procédé de lavage, lors de l'élimination par rinçage de la composition de lavage pendant le lavage du masque qui a été utilisé dans un procédé de dépôt en phase vapeur sous vide dans la fabrication d'un élément EL organique, il est possible de laver le masque de façon à ce qu'il soit extrêmement propre sans entraîner de décomposition d'un ingrédient actif.
(JA) 真空蒸着用のマスクの洗浄方法であって、マスクを、N-メチル-2-ピロリジノン及びN,N-ジメチルホルムアミドから選ばれる少なくとも1種を含む洗浄組成物で洗浄し、洗浄後のマスクを、HFE-347pc-f、HFE-254pc、HFE-356pcf及びHFE-449mec-fから選ばれる少なくとも1種のハイドロフルオロエーテルを含むリンス組成物によってリンスする洗浄方法。この洗浄方法では、有機EL素子製造時の真空蒸着工程において使用されたマスクの洗浄において、洗浄組成物をリンスする際に、有効成分の分解を伴わず、マスクを極めて清浄に洗浄することができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)