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1. (WO2019003503) 位相差フィルム、円偏光板、および位相差フィルムの製造方法
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国際公開番号: WO/2019/003503 国際出願番号: PCT/JP2018/009158
国際公開日: 03.01.2019 国際出願日: 09.03.2018
IPC:
G02B 5/30 (2006.01) ,B29C 55/06 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,B29L 7/00 (2006.01) ,B29L 11/00 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
30
偏光要素
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
55
延伸による成形,例.ダイを通して引き抜くもの;そのための装置
02
板またはシートの
04
一軸延伸,例.斜め方向の
06
供給方向に平行なもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
L
サブクラスB29Cに関連する特定物品についてのインデキシング系列
7
板状物品,例.フィルムまたはシート
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
L
サブクラスB29Cに関連する特定物品についてのインデキシング系列
11
光学部品,例.レンズ,プリズム
出願人:
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
発明者:
鈴木 暢 SUZUKI Mitsuru; JP
角村 浩 SUMIMURA Hiroshi; JP
高松 秀行 TAKAMATSU Hideyuki; JP
清水 享 SHIMIZU Takashi; JP
柳沼 寛教 YAGINUMA Hironori; JP
友久 寛 TOMOHISA Hiroshi; JP
代理人:
籾井 孝文 MOMII Takafumi; JP
優先権情報:
2017-12660828.06.2017JP
発明の名称: (EN) PHASE DIFFERENCE FILM, CIRCULARLY POLARIZING PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE DIFFERENCE FILM
(FR) FILM À DIFFÉRENCE DE PHASE, PLAQUE À POLARISATION CIRCULAIRE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM À DIFFÉRENCE DE PHASE
(JA) 位相差フィルム、円偏光板、および位相差フィルムの製造方法
要約:
(EN) The present invention provides a phase difference film capable of minimizing a change in a phase difference value under high temperature and high humidity environment. A manufacturing method according to the present invention is used to produce a phase difference film with an in-plane retardation that satisfies the relationship of Re(450) < Re(550). The manufacturing method includes a heat treatment step of heating a stretched film for two minutes or longer at a temperature of 105°C or higher, the stretched film exhibiting a shrinkage of 0.4% or less along the slow axis in the TMA of heating which repeats the cycle of heating and cooling the stretched film between 30°C and Tg - 25°C three times or the stretched film exhibiting a shrinkage of 0.7% or less along the slow axis in the TMA of humidification which changes the environment in order of 25°C/25%RH, 85°C/2%RH, 85°C/85%RH, and 85°C/2%RH.
(FR) La présente invention concerne un film à différence de phase capable de minimiser la modification d'une valeur de différence de phase dans un environnement à haute température et humidité élevée. Un procédé de fabrication selon la présente invention est utilisé pour produire un film à différence de phase présentant un retard dans le plan qui satisfait la relation Re(450) < Re(550). Le procédé de fabrication comprend une étape de traitement thermique consistant à chauffer un film étiré pendant au moins deux minutes à une température d'au moins 105 °C, le film étiré présentant un rétrécissement de 0,4 % ou moins le long de l'axe lent dans l'ATM de chauffage qui répète le cycle de chauffage et de refroidissement du film étiré entre 30 °C et Tg - 25 °C trois fois ou le film étiré présentant un rétrécissement de 0,7 % ou moins le long de l'axe lent dans l'ATM d'humidification qui modifie l'environnement dans l'ordre de 25 °C/25 % RH, 85 °C/2 % RH, 85 °C/85 % RH, et 85 °C/2 % RH.
(JA) 高温高湿環境下での位相差値の変化を抑制し得る位相差フィルムを提供する。本発明の製造方法は、面内位相差がRe(450)<Re(550)の関係を満たす位相差フィルムを得る製造方法であって、30℃からTg-25℃まで昇温して再度30℃に冷却することを3サイクル繰り返す加熱TMA試験において遅相軸方向の収縮率が0.4%以下であるか、または、25℃/25%RH、85℃/2%RH、85℃/85%RH、85℃/2%RHの順に環境を変化させる加湿TMA試験において遅相軸方向の収縮率が0.7%以下である延伸フィルムを、105℃以上の温度で2分間以上加熱する加熱処理工程を含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)