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1. (WO2019002014) DEVICE FOR TRANSPORTING A SUBSTRATE, TREATMENT DEVICE WITH A RECEIVING PLATE ADAPTED TO A SUBSTRATE CARRIER OF A DEVICE OF THIS KIND, AND METHOD FOR PROCESSING A SUBSTRATE USING A DEVICE OF THIS KIND FOR THE TRANSPORT OF A SUBSTRATE, AND TREATMENT FACILITY
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国際公開番号: WO/2019/002014 国際出願番号: PCT/EP2018/066192
国際公開日: 03.01.2019 国際出願日: 19.06.2018
IPC:
H01L 21/673 (2006.01) ,H01L 21/687 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,C23C 16/509 (2006.01) ,C23C 16/458 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
673
特に適合するキャリアを使用するもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683
支持または把持のためのもの
687
機械的手段を使用するもの,例.チャック,クランプ,またはピンチ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
50
放電を用いるもの
505
高周波放電によるもの
509
内部電極を用いるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
458
反応室の基板を支えるのに使われる方法に特徴があるもの
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
32
ガス入り放電管
出願人:
MEYER BURGER (GERMANY) GMBH [DE/DE]; An der Baumschule 6 - 8 09337 Hohenstein-Ernstthal, DE
発明者:
SCHLEMM, Hermann; DE
KEHR, Mirko; DE
ANSORGE, Erik; DE
RASCHKE, Sebastian; DE
代理人:
KAILUWEIT & UHLEMANN PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFT MBB; Bamberger Straße 49 01187 Dresden, DE
優先権情報:
17178276.628.06.2017EP
発明の名称: (EN) DEVICE FOR TRANSPORTING A SUBSTRATE, TREATMENT DEVICE WITH A RECEIVING PLATE ADAPTED TO A SUBSTRATE CARRIER OF A DEVICE OF THIS KIND, AND METHOD FOR PROCESSING A SUBSTRATE USING A DEVICE OF THIS KIND FOR THE TRANSPORT OF A SUBSTRATE, AND TREATMENT FACILITY
(FR) DISPOSITIF DE TRANSPORT D'UN SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DOTÉ D'UNE PLAQUE DE RÉCEPTION ADAPTÉE À UN SUPPORT DE SUBSTRAT D'UN TEL DISPOSITIF, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT À L'AIDE D'UN TEL DISPOSITIF DE TRANSPORT D'UN SUBSTRAT AINSI QU'INSTALLATION DE TRAITEMENT
(DE) VORRICHTUNG ZUM TRANSPORT EINES SUBSTRATS, BEHANDLUNGSVORRICHTUNG MIT EINER AN EINEN SUBSTRATTRÄGER EINER SOLCHEN VORRICHTUNG ANGEPASSTEN AUFNAHMEPLATTE UND VERFAHREN ZUM PROZESSIEREN EINES SUBSTRATES UNTER NUTZUNG EINER SOLCHEN VORRICHTUNG ZUM TRANSPORT EINES SUBSTRATS SOWIE BEHANDLUNGSANLAGE
要約:
(EN) The invention relates to a device for transporting a substrate into or away from a treatment device, a treatment device, a method for processing a substrate and a treatment facility with a movement arrangement for moving a device of this kind for transporting a substrate. The device for transporting a substrate comprises a substrate carrier which contains a horizontally extending retaining surface and one or more grippers. The retaining surface is even and uniform on a first surface facing the substrate and the form thereof substantially corresponds to the form of the substrate. The surface thereof is substantially the same as the surface of the substrate, wherein the substrate is retained by its rear side on the retaining surface only by its weight. The treatment device has a receiving plate on which the substrate is retained during the treatment, wherein the receiving plate has a depression in a first surface which is suitable for accommodating a substrate carrier of this kind during treatment of the substrate.
(FR) L'invention concerne un dispositif de transport d'un substrat dans un dispositif de traitement vers ou à partir dudit dispositif de traitement, un procédé de traitement d'un substrat et une installation de traitement dotée d'un ensemble de déplacement destiné à déplacer un tel dispositif de transport d'un substrat. Selon l'invention, le dispositif de transport d'un substrat comporte un support de substrat, qui comprend une surface de retenue s'étendant horizontalement et un ou une pluralité de bras de préhension. La surface de retenue est formée plane et uniforme sur une première surface supérieure tournée vers le substrat, dont la forme correspond sensiblement à la forme du substrat et dont la surface est sensiblement égale à la surface du substrat, le substrat étant maintenu seulement à l'aide de son poids par sa face arrière sur la surface de retenue. Le dispositif de traitement comporte une plaque de réception sur laquelle le substrat est maintenu lors du traitement, la plaque de réception comportant, dans une première surface, un évidement, qui est conçu pour recevoir un tel support de substrat lors du traitement du substrat.
(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Transport eines Substrates in eine Behandlungsvorrichtung hinein oder aus dieser heraus, eine Behandlungsvorrichtung, ein Verfahren zum Prozessieren eines Substrates und eine Behandlungsanlage mit einer Bewegungsanordnung zum Bewegen einer derartigen Vorrichtung zum Transport eines Substrates. Dabei weist die Vorrichtung zum Transport eines Substrates einen Substratträger auf, der eine sich horizontal erstreckende Haltefläche und einen oder mehrere Greifarme enthält. Die Haltefläche ist auf einer dem Substrat zugewandten ersten Oberfläche eben und gleichförmig ausgebildet, deren Form im Wesentlichen der Form des Substrates entspricht und deren Fläche im Wesentlichen gleich der Fläche des Substrates ist, wobei das Substrat nur durch seine Gewichtskraft mit seiner Rückseite auf der Haltefläche gehalten wird. Die Behandlungsvorrichtung weist eine Aufnahmeplatte auf, auf der das Substrat während der Behandlung gehaltert wird, wobei die Aufnahmeplatte in einer ersten Oberfläche eine Vertiefung aufweist, die geeignet ist, einen derartigen Substratträger während der Behandlung des Substrates aufzunehmen.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: ドイツ語 (DE)
国際出願言語: ドイツ語 (DE)