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1. (WO2019001873) METHODS AND PATTERNING DEVICES AND APPARATUSES FOR MEASURING FOCUS PERFORMANCE OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD
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国際公開番号: WO/2019/001873 国際出願番号: PCT/EP2018/063959
国際公開日: 03.01.2019 国際出願日: 28.05.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
発明者:
STAALS, Frank; NL
VAN OOSTEN, Anton, Bernhard; NL
YUDHISTIRA, Yasri; US
LUIJTEN, Carlo, Cornelis, Maria; NL
VERSTRAETEN, Bert; NL
GEMMINK, Jan-Willem; NL
代理人:
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
優先権情報:
17177774.126.06.2017EP
発明の名称: (EN) METHODS AND PATTERNING DEVICES AND APPARATUSES FOR MEASURING FOCUS PERFORMANCE OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉS ET DISPOSITIFS ET APPAREILS DE FORMATION DE MOTIFS PERMETTANT DE MESURER LES PERFORMANCES DE FOCALISATION D’UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
要約:
(EN) Focus metrology patterns and methods are disclosed which do not rely on sub-resolution features. Focus can be measured by measuring asymmetry of the printed pattern (T), or complementary pairs of printed patterns (TN/TM). Asymmetry can be measured by scatterometry. Patterns may be printed using EUV radiation or DUV radiation. A first type of focus metrology pattern comprises first features (422) interleaved with second features (424). A minimum dimension (w1) of each first feature is close to a printing resolution. A maximum dimension (w2) of each second feature in the direction of periodicity is at least twice the minimum dimension of the first features. Each first feature is positioned between two adjacent second features such that a spacing (w1') and its nearest second feature is between one half and twice the minimum dimension of the first features. A second type of focus metrology pattern comprises features (1122, 1124) arranged in pairs.
(FR) L’invention concerne des motifs et des procédés de métrologie de focalisation qui ne reposent pas sur des caractéristiques de sous-résolution. La focalisation peut être mesurée par des mesures de l’asymétrie du motif imprimé (T) ou de paires complémentaires de motifs imprimés (TN/TM). L’asymétrie peut être mesurée par diffusiométrie. Des motifs peuvent être imprimés à l’aide d’un rayonnement EUV ou d’un rayonnement DUV. Un premier type de motif de métrologie de focalisation comprend des premières caractéristiques (422) entrelacées avec des deuxièmes caractéristiques (424). Une dimension minimale (w1) de chaque première caractéristique est proche d’une résolution d’impression. Une dimension maximale (w2) de chaque deuxième caractéristique dans la direction de périodicité est au moins égale au double de la dimension minimale des premières caractéristiques. Chaque première caractéristique est positionnée entre deux deuxièmes caractéristiques adjacentes de telle façon qu’un espacement (w1') et sa deuxième caractéristique la plus proche se trouvent entre une moitié et le double de la dimension minimale des premières caractéristiques. Un deuxième type de motif de métrologie de focalisation comprend des caractéristiques (1122, 1124) disposées sous forme de paires.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)