このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018235889) スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲット用アルミニウム板及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/235889 国際出願番号: PCT/JP2018/023573
国際公開日: 27.12.2018 国際出願日: 21.06.2018
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,C22F 1/04 (2006.01) ,C22F 1/00 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
F
非鉄金属または非鉄合金の物理的構造の変化
1
非鉄金属または合金の熱処理によるか熱間または冷間加工による物理的構造の変化
04
アルミニウムまたはアルミニウム基合金
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
F
非鉄金属または非鉄合金の物理的構造の変化
1
非鉄金属または合金の熱処理によるか熱間または冷間加工による物理的構造の変化
出願人:
株式会社UACJ UACJ CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目7番2号 1-7-2, Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004, JP
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都中央区新川二丁目27番1号 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP
発明者:
竹田 博貴 TAKEDA Hiroki; JP
藤田 昌宏 FUJITA Masahiro; JP
代理人:
特許業務法人あいち国際特許事務所 AICHI, TAKAHASHI, IWAKURA & ASSOCIATES; 愛知県名古屋市中村区名駅3丁目26番19号 名駅永田ビル Meieki Nagata Building, 26-19, Meieki 3-chome, Nakamura-ku, Nagoya-shi, Aichi 4500002, JP
優先権情報:
2017-12221022.06.2017JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING TARGET MATERIAL, SPUTTERING TARGET, ALUMINUM SHEET FOR SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) MATÉRIAU POUR CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, FEUILLE D'ALUMINIUM POUR CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
(JA) スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲット用アルミニウム板及びその製造方法
要約:
(EN) A sputtering target material (2) comprises aluminum having a purity of 99.999 mass% or higher, and incidental impurities. The sputtering target material satisfies formulae: Ds≤230; Dq≤280; Dc≤300; 1.2≤Dq/Ds; and 1.3≤Dc/Ds, where Ds [μm] represents the average crystal grain size at the sheet surface (21) thereof, Dq [μm] represents the average crystal grain size at a depth (22) of 1/4 of the sheet thickness, and Dc [μm] represents the average crystal grain size at a depth (23) of 1/2 of the sheet thickness. The average crystal grain size changes in a continuous manner in the sheet thickness direction.
(FR) Un matériau pour cible de pulvérisation cathodique (2) comprend de l'aluminium ayant une pureté de 99,999 % en masse ou plus, et des impuretés incidentes. Le matériau pour cible de pulvérisation cathodique répond aux formules : Ds ≤ 230 ; Dq ≤ 280 ; Dc ≤ 300 ; 1,2 ≤ Dq/Ds ; et 1,3 ≤ Dc/Ds, où Ds[μm] représente la taille moyenne des grains cristallins au niveau de la surface de feuille (21) dudit matériau, Dq [μm] représente la taille moyenne des grains cristallins à une profondeur (22) de 1/4 de l'épaisseur de la feuille, et Dc [μm] représente la taille moyenne des grains cristallins à une profondeur (23) de 1/2 de l'épaisseur de la feuille. La taille moyenne des grains cristallins change de manière continue dans la direction de l'épaisseur de la feuille.
(JA) スパッタリングターゲット材(2)は、純度99.999質量%以上のアルミニウムと、不可避的不純物とから構成されている。板表面(21)の平均結晶粒径をD[μm]、板厚の1/4の深さ(22)における平均結晶粒径をD[μm]、板厚の1/2の深さ(23)における平均結晶粒径をD[μm]としたときに、下記式を満たすとともに、平均結晶粒径が板厚方向に連続的に変化している。 D≦230 D≦280 D≦300 1.2≦D/D 1.3≦D/D
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)