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1. (WO2018235759) フレキシブルデバイス用基板
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国際公開番号: WO/2018/235759 国際出願番号: PCT/JP2018/023059
国際公開日: 27.12.2018 国際出願日: 18.06.2018
IPC:
H05B 33/02 (2006.01) ,B32B 15/04 (2006.01) ,C03C 8/16 (2006.01) ,C23C 8/12 (2006.01) ,C23C 28/00 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/04 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15
本質的に金属からなる積層体
04
層の主なまたは唯一の構成要素が金属からなり,特定物質の他の層に隣接したもの
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
8
ほうろう;うわ薬;非フリット添加物をもつフリット組成物である溶融封止剤組成物
14
非フリット添加物をもつガラスフリット混合物,例.乳白剤,着色剤,ミル添加物
16
ビヒクルまたは懸濁化剤をもつもの,例.スリップ
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
8
金属質材料表面への非金属元素のみの固相拡散;表面と反応性ガスとの反応による金属質材料の化学的表面処理,であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残すもの,例.化成被覆(conversioncoatings),金属の不働態化
06
ガスを用いるもの
08
1元素のみが用いられるもの
10
酸化
12
元素状酸素またはオゾンを用いるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
28
メイングループC23C2/00からC23C26/00の単一のメイングループに分類されない方法によるかまたはサブクラスC23CおよびC25Dに分類される方法の組合わせによる少なくとも2以上の重ね合わせ被覆層を得るための被覆
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
04
封止装置
出願人:
東洋製罐グループホールディングス株式会社 TOYO SEIKAN GROUP HOLDINGS, LTD. [JP/JP]; 東京都品川区東五反田2丁目18番1号 18-1, Higashi-Gotanda 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1418627, JP
発明者:
南部 光司 NANBU, Kouji; JP
宮▲崎▼ 俊彦 MIYAZAKI, Toshihiko; JP
升田 裕久 MASUDA, Hirohisa; JP
下村 洋司 SHIMOMURA, Hiroshi; JP
代理人:
小野 尚純 ONO, Hisazumi; JP
奥貫 佐知子 OKUNUKI, Sachiko; JP
優先権情報:
2017-12337923.06.2017JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE FOR FLEXIBLE DEVICES
(FR) SUBSTRAT POUR DISPOSITIFS FLEXIBLES
(JA) フレキシブルデバイス用基板
要約:
(EN) The present invention provides a substrate for flexible devices, which has excellent bending resistance and excellent surface smoothness of a glass layer surface, while exhibiting excellent antirust properties, moisture barrier properties and adhesion of a glass layer. This substrate for flexible devices is characterized by comprising: a stainless steel base material; a nickel plating layer that is formed on the surface of the stainless steel base material; and a glass layer that is formed on the surface of the nickel plating layer in the form of a bismuth glass layer having electrical insulating properties.
(FR) La présente invention concerne un substrat pour dispositifs flexibles, présentant l’excellente résistance à la flexion et l’excellente planéité de surface d’une couche de verre, tout en présentant les excellentes propriétés antirouille, anti-humidité et d’adhérence d’une couche de verre. Ledit substrat pour dispositifs flexibles est caractérisé en ce qu’il contient un matériau de base en acier inoxydable, une couche de placage en nickel réalisée sur la surface du matériau de base en acier inoxydable, et une couche de verre réalisée sur la surface de la couche de placage en nickel sous la forme d’une couche de verre de bismuth présentant des propriétés d’isolation électrique.
(JA) 耐錆性、水分バリア性及びガラス層の密着性に優れていると共に、曲げ耐性及びガラス層表面の表面平滑性に優れたフレキシブルデバイス用基板を提供することである。ステンレススチール基材と、該ステンレススチール基材の表面に形成されたニッケルめっき層と、該ニッケルめっき層の表面に電気絶縁性を有するビスマス系ガラスが層状に形成されたガラス層とを有することを特徴とするフレキシブルデバイス用基板である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)