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1. (WO2018230457) 基板処理装置
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国際公開番号: WO/2018/230457 国際出願番号: PCT/JP2018/021994
国際公開日: 20.12.2018 国際出願日: 08.06.2018
IPC:
H01L 21/306 (2006.01) ,B08B 3/02 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
B 処理操作;運輸
08
清掃
B
清掃一般;汚れ防止一般
3
液体または蒸気の使用または存在を含む方法による清掃
02
ジェットまたはスプレーの力による清掃
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
井谷 晶 ITANI Akira; --
代理人:
特許業務法人暁合同特許事務所 AKATSUKI UNION PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中区栄二丁目1番1号 日土地名古屋ビル5階 5th Floor, Nittochi Nagoya Bldg., 1-1, Sakae 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008, JP
優先権情報:
2017-11580013.06.2017JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置
要約:
(EN) A wet etching device is provided with: a substrate transfer unit which includes an etching liquid ejection unit or a cleaning liquid ejection unit for supplying an etching liquid or a cleaning liquid to a surface to be processed of a mother glass substrate, a parallel rotary shaft of which the axis direction is parallel with the surface to be processed, and a substrate transfer roller which is journaled to the parallel rotary shaft and supports the mother glass substrate in such a manner as to be transferrable from the opposite side to the side of the surface to be processed, the substrate transfer unit transferring the mother glass substrate; and an auxiliary substrate transfer unit which includes an intersecting rotary shaft of which the axis direction intersects the surface to be processed, and a substrate pressing roller which is journaled to the intersecting rotary shaft and presses the mother glass substrate from the side of the surface to be processed in a transferrable state. The auxiliary substrate transfer unit is disposed with a part thereof not overlapping the mother glass substrate, and assists the transfer of the mother glass substrate.
(FR) L'invention concerne un dispositif de gravure humide comprenant : une unité de transfert de substrat qui comprend une unité d'éjection de liquide de gravure ou une unité d'éjection de liquide de nettoyage pour fournir un liquide de gravure ou un liquide de nettoyage à une surface à traiter d'un substrat de verre mère, un arbre rotatif parallèle dont la direction axiale est parallèle à la surface à traiter, et un rouleau de transfert de substrat qui est tourillonné sur l'arbre rotatif parallèle et supporte le substrat de verre mère de manière à pouvoir être transféré du côté opposé au côté de la surface à traiter, l'unité de transfert de substrat transférant le substrat de verre mère; et une unité de transfert de substrat auxiliaire qui comprend un arbre rotatif d'intersection dont la direction d'axe coupe la surface à traiter, et un rouleau de pression de substrat qui est tourillonné sur l'arbre rotatif d'intersection et presse le substrat de verre mère à partir du côté de la surface à traiter dans un état transférable. L'unité de transfert de substrat auxiliaire est disposée avec une partie de celle-ci ne chevauchant pas le substrat de verre mère, et aide au transfert du substrat de verre mère.
(JA) ウェットエッチング装置は、マザーガラス基板の被処理面にエッチング液や洗浄液を供給するエッチング液吐出部や洗浄液吐出部と、軸線方向が被処理面に並行する並行回転軸と、並行回転軸により回転可能に軸支されてマザーガラス基板を被処理面側とは反対側から搬送可能な状態で支持する基板搬送ローラと、を有していてマザーガラス基板を搬送する基板搬送部と、軸線方向が被処理面と交差する交差回転軸と、交差回転軸によって回転可能に軸支されてマザーガラス基板を被処理面側から搬送可能な状態で押さえる基板押さえローラと、を有していて一部がマザーガラス基板に対して非重畳となる形で配されてマザーガラス基板の搬送を補助する補助基板搬送部と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)