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1. (WO2018230093) 電磁波吸収体及び電磁波吸収体付成形品
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国際公開番号: WO/2018/230093 国際出願番号: PCT/JP2018/012603
国際公開日: 20.12.2018 国際出願日: 27.03.2018
IPC:
H05K 9/00 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,B32B 15/08 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
9
電場または磁場に対する装置または部品の遮へい
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7
層間の関係を特徴とする積層体,すなわち本質的に異なる物理的性質を有する層または層の相互連続を特徴とする積層体
02
物理的性質,例.堅さ,に関するもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9
本質的にグループ11/00~29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15
本質的に金属からなる積層体
04
層の主なまたは唯一の構成要素が金属からなり,特定物質の他の層に隣接したもの
08
合成樹脂の層に隣接したもの
出願人:
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-2, Shimohozumi 1-chome, Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
発明者:
山形 一斗 YAMAGATA Kazuto; JP
待永 広宣 MACHINAGA Hironobu; JP
上田 恵梨 UEDA Eri; JP
請井 博一 UKEI Hiroichi; JP
宇井 丈裕 UI Takehiro; JP
代理人:
鎌田 耕一 KAMADA Koichi; JP
西尾 光彦 NISHIO Mitsuhiko; JP
優先権情報:
2017-11629713.06.2017JP
発明の名称: (EN) ELECTROMAGNETIC-WAVE ABSORBER AND MOLDED ARTICLE PROVIDED WITH ELECTROMAGNETIC-WAVE ABSORBER
(FR) CORPS ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES ET PRODUIT MOULÉ DOTÉ DE CORPS ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES
(JA) 電磁波吸収体及び電磁波吸収体付成形品
要約:
(EN) This electromagnetic-wave absorber (1) comprises a dielectric layer (10), a resistance layer (20), and an electroconductive layer (30). The resistance layer (20) is arranged on one principal surface of the dielectric layer (10). The electroconductive layer (30) is arranged on the other principal surface of the dielectric layer (10), and has a sheet resistance that is lower than the sheet resistance of the resistance layer (20). The resistance layer (20) has a sheet resistance of from 200 to 600 Ω/□. As for the resistance layer (20), when the resistance layer (20) is subjected to an immersion treatment in which the resistance layer is immersed in a 5 wt% NaOH aqueous solution for 5 minutes, the absolute value of a difference between the sheet resistance of the resistance layer (20) before the immersion treatment and the sheet resistance of the resistance layer (20) after the immersion treatment is less than 100 Ω/□.
(FR) L’invention concerne un corps (1) absorbant les ondes électromagnétiques, lequel comporte: une couche diélectrique (10), une couche électro-résistive (20) et une couche électro-conductrice (30). La couche électro-résistive (20) est située sur une face principale de la couche diélectrique (10). La couche électro-conductrice (30) est située sur l’autre face principale de la couche diélectrique (10) et possède une résistance surfacique inférieure à la résistance surfacique de la couche électro-résistive (20). La couche électro-résistive (20) possède une résistance surfacique de 200 à 600Ω/sq. Lorsqu’un traitement d’immersion est effectué, lequel traitement consiste à plonger ladite couche électro-résistive (20) dans une solution aqueuse contenant 5% en poids de NaOH pendant 5 minutes, la valeur absolue de la différence entre la résistance surfacique de la couche électro-résistive (20) avant le traitement et la résistance surfacique de la couche électro-résistive (20) après le traitement est inférieure à 100Ω/sq.
(JA) 電磁波吸収体(1)は、誘電体層(10)と、抵抗層(20)と、導電層(30)とを備える。抵抗層(20)は、誘電体層(10)の一方の主面に配置されている。導電層(30)は、誘電体層(10)の他方の主面に配置され、抵抗層(20)のシート抵抗より低いシート抵抗を有する。抵抗層(20)は、200~600Ω/□のシート抵抗を有する。抵抗層(20)は、抵抗層(20)を5重量%のNaOH水溶液に5分間浸す浸漬処理を行った場合に、浸漬処理前の抵抗層(20)のシート抵抗と浸漬処理後の抵抗層(20)のシート抵抗との差の絶対値が100Ω/□未満である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)