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1. (WO2018229855) 極端紫外光生成装置
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国際公開番号: WO/2018/229855 国際出願番号: PCT/JP2017/021759
国際公開日: 20.12.2018 国際出願日: 13.06.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G21K 5/02 (2006.01) ,H05G 1/00 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
21
核物理;核工学
K
他に分類されない粒子線または電離放射線の取扱い技術;照射装置;ガンマ線またはX線顕微鏡
5
照射装置
02
ビーム形成手段をもたないもの
H 電気
05
他に分類されない電気技術
G
X線技術
1
X線管を含むX線装置;そのための回路
出願人:
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
発明者:
福田 修 FUKUDA, Osamu; JP
代理人:
松浦 憲三 MATSUURA, Kenzo; 東京都新宿区西新宿二丁目6番1号 新宿住友ビル23階 私書箱第176号 新都心国際特許事務所 Matsuura & Associates, P.O. Box 176, Shinjuku Sumitomo Bldg. 23F, 6-1, Nishi-shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630223, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PRODUCTION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
要約:
(EN) This extreme ultraviolet light generation device is provided with: (A) a chamber for generating extreme ultraviolet light by bringing a target material into a plasma state by irradiating the target material with laser light; (B) a vessel, i.e., a cylindrical member that constitutes the chamber; (C) a reference member that supports the vessel; (D) a collector mirror, which collects extreme ultraviolet light in the chamber, and which is disposed in the chamber by being replaceably attached to the reference member and being covered with the vessel; and (E) a vessel moving mechanism, which is provided to the reference member, and which moves the vessel, said vessel moving mechanism moving the vessel between a first position, at which the vessel covers the collector mirror, and a second position, at which the vessel is retracted from the first position, and exposes the collector mirror.
(FR) Dispositif de production de lumière ultraviolette extrême pourvu : (A) d'une chambre pour produire une lumière ultraviolette extrême en amenant un matériau cible dans un état de plasma par l'exposition du matériau cible à une lumière laser ; (B) d'un récipient, c'est-à-dire, un élément cylindrique qui constitue la chambre ; (C) d'un élément de référence qui supporte le récipient ; (D) d'un miroir collecteur, qui collecte une lumière ultraviolette extrême dans la chambre, et qui est disposé dans la chambre en étant fixé de manière remplaçable à l'élément de référence et étant recouvert par le récipient ; et (E) d'un mécanisme de déplacement de récipient, qui est disposé sur l'élément de référence, et qui déplace le récipient, ledit mécanisme de déplacement de récipient déplaçant le récipient entre une première position, dans laquelle le récipient recouvre le miroir collecteur, et une seconde position, dans laquelle le récipient est rétracté à partir de la première position, et expose le miroir collecteur.
(JA) 極端紫外光生成装置は、以下を備える:A.ターゲット物質にレーザ光を照射してターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成するためのチャンバ;B.チャンバを構成する筒状部材であるベッセル;C.ベッセルを支持する基準部材;D.チャンバ内において極端紫外光を集光するコレクタミラーであって、基準部材に交換可能に取り付けられ、かつ、ベッセルによって覆われることによりチャンバ内に配置されるコレクタミラー;E.基準部材に設けられ、ベッセルを移動させるベッセル移動機構であって、ベッセルがコレクタミラーを覆う第1位置と、ベッセルが第1位置から退避してコレクタミラーを露出する第2位置との間でベッセルを移動させるベッセル移動機構。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)