このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018226966) MAGNETIC-FIELD-ASSISTED PLASMA COATING SYSTEM
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/226966 国際出願番号: PCT/US2018/036474
国際公開日: 13.12.2018 国際出願日: 07.06.2018
IPC:
C23C 14/12 (2006.01) ,C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/32 (2006.01) ,C23C 14/35 (2006.01) ,C23C 16/30 (2006.01) ,C23C 16/32 (2006.01) ,C23C 16/50 (2006.01) ,C23C 16/52 (2006.01) ,F02F 1/24 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
12
有機質材料
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
32
爆発によるもの;蒸発およびその後の蒸気のイオン化によるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
35
磁界の適用によるもの,例.マグネトロンスパッタリング
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
22
金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの
30
化合物,混合物または固溶体の析出,例.ほう化物,炭化物,窒化物
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
22
金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの
30
化合物,混合物または固溶体の析出,例.ほう化物,炭化物,窒化物
32
炭化物
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
50
放電を用いるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
52
被覆工程の制御または調整(制御または調整一般G05)
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
02
燃焼機関;熱ガスまたは燃焼生成物を利用する機関設備
F
燃焼機関のシリンダ,ピストンまたはケーシング;燃焼機関の密封装置の構成
1
シリンダ;シリンダヘッド
24
シリンダヘッド
出願人:
BOARD OF TRUSTEES OF MICHIGAN STATE UNIVERSITY [US/US]; 450 Administration Building East Lansing, Michigan 48824-1046, US
FRAUNHOFER USA [US/US]; 1449 Engineering Research Ct East Lansing, Michigan 48824, US
発明者:
SCHUELKE, Thomas; US
BECKER, Michael; US
HAUBOLD, Lars; US
FAN, Qi Hua; US
代理人:
FALCOFF, Monte L.; US
AMBROSE, John; US
AQUINO, Damian; US
BARNETT, Scott D.; US
BENSON, Tyson B.; US
BERBERICH, Jeanette M.; US
BRENNAN, Michael P.; US
BRITT, Nancy K.; US
BROCK, Christopher M.; US
CASTELLANO, John A., III; US
CAUBLE, Christopher M.; US
CHANG, Alex C.; US
CHAPP, Jeffrey J.; US
CHO, David J.; US
CUTLER, Matthew L.; US
DALEY, Donald J.; US
DEAVER, Darin W.; US
DELASSUS, Gregory S.; US
DOERR, Michael P.; US
DOWDY, Stephanie L.; US
DRYSDALE, Nicholas S.; US
ELCHUK, Mark D.; US
ERJAVAC, Stanley M.; US
FITZPATRICK, John; US
FORBIS, Glenn E.; US
FOSS, Stephen J.; US
FRANKLIN, Clarence C.; US
FRENTRUP, Mark A.; US
FULLER, Roland, III; US
FUSSNER, Anthony G.; US
GAMBLE, Michael D.; US
HEIST, Jason A.; US
HILTON, Michael E.; US
HOYT, Blair M.; US
KELLER, Paul A.; US
KESKAR, Hemant; US
KIM, Paul M.; US
KIM, Sung Pil; US
KORAL, Elisabeth; US
KOTSIS, Damian H.; US
KOZU, Kiyoshi; US
LAFATA, Joseph M.; US
LEE, Kisuk; US
LUCHSINGER, James B.; US
MACINTYRE, Timothy D.; US
MALINZAK, Michael; US
MARTIN, Timothy J.; US
MASSEY, Ryan W.; US
MEYER, Greg; US
MIERZWA, Kevin; US
MILLER, Christopher K.; US
MOUSTAKAS, George D.; US
NABI, Tarik M.; US
NYE, Michael; US
ODELL, Elizabeth D.; US
OLSON, Stephen T.; US
PANKA, Brian G.; US
RAKERS, Leanne; US
RICHMOND, Derek; US
ROBINSON, Douglas A.; US
SCHIANO, Thomas E.; US
SCHIVLEY, Gregory G.; US
SCHMIDT, Michael J.; US
SEITZ, Brent G.; US
SIMINSKI, Robert M.; US
SMITH, Corey E.; US
SMITH, Michael L.; US
SNYDER, Jeffrey L.; US
SUTER, David L.; US
TAYLOR, Michael L.; US
TAYLOR, W. R. Duke; US
TEICH, Michael L.; US
THOMAS, Michael J.; US
TUCKER, David J., Jr.; US
UTYKANSKI, David P.; US
VARCO, Michael A.; US
WADE, Bryant E.; US
WALKER, Donald G.; US
WALSH, JR., Joseph E.; US
WANGEROW, Steven; US
WARNER, Richard W.; US
WAXMAN, Andrew M.; US
WELCH, Gerald T.; US
WHEELOCK, Bryan K.; US
WIGGINS, Michael D.; US
WOODSIDE-WOJTALA, Jennifer; US
YACURA, Gary D.; US
ZALOBSKY, Michael D.; US
優先権情報:
62/516,79708.06.2017US
発明の名称: (EN) MAGNETIC-FIELD-ASSISTED PLASMA COATING SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE REVÊTEMENT PAR PLASMA ASSISTÉ PAR CHAMP MAGNÉTIQUE
要約:
(EN) A magnetic-field-assisted plasma coating system (51; 121; 181; 251) and method are provided. In another aspect, a coating system employs a cathode (61; 261) with a linearly moveable magnetic field. A further aspect employs a workpiece (26; 151; 226) as an anode within which is located an elongated cathode which internally coats a bore (23; 223) of the workpiece. Still another aspect of the present system and method employs an elongated and hollow cathode with at least one magnetic source (69; 123; 269) therein. In yet another aspect, end caps (87; 89; 183; 185) or plates seal against one or more open ends of a workpiece bore to be coated, with a cathode inserted into the bore and a vacuum being created within the bore such that the workpiece itself defines at least a portion of a vacuum chamber.
(FR) L'invention concerne un système de revêtement par plasma assisté par champ magnétique. Dans un autre aspect, un système de revêtement utilise une cathode (61; 261) avec un champ magnétique mobile linéairement. Un autre aspect de l'invention utilise une pièce à usiner (26 ; 151 ; 226) en tant qu'anode à l'intérieur de laquelle se trouve une cathode allongée qui réalise le revêtement intérieur d'un alésage (23 ; 223) de la pièce à usiner. Un autre aspect de la présente invention concerne un système et un procédé utilisant une cathode allongée et creuse avec au moins une source magnétique (69 ; 123 ; 269) à l'intérieur de celle-ci. Selon encore un autre aspect, des embouts (87 ; 89 ; 183 ; 185) ou des plaques scellent une ou plusieurs extrémités ouvertes d'un alésage de pièce à usiner à revêtir, une cathode étant insérée dans l'alésage et un vide étant créé à l'intérieur de l'alésage de telle sorte que la pièce à usiner elle-même définit au moins une portion d'une chambre sous vide.
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)