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1. (WO2018225441) 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板
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国際公開番号: WO/2018/225441 国際出願番号: PCT/JP2018/017810
国際公開日: 13.12.2018 国際出願日: 08.05.2018
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/075 (2006.01) ,H05K 1/03 (2006.01) ,H05K 3/28 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
075
シリコン含有化合物
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
1
印刷回路
02
細部
03
基体用材料の使用
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
22
印刷回路の2次的処理
28
非金属質の保護被覆を施すこと
出願人:
互応化学工業株式会社 GOO CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 京都府宇治市伊勢田町井尻58番地 58, Ijiri, Iseda-cho, Uji-shi, Kyoto 6110043, JP
日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 NIPPON STEEL CHEMICAL & MATERIAL CO. LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区外神田四丁目14番1号 14-1, Sotokanda 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010021, JP
発明者:
樋口 倫也 HIGUCHI, Michiya; --
藤原 勇佐 FUJIWARA, Yusuke; --
橋本 壯一 HASHIMOTO, Soichi; --
荒井 貴 ARAI, Takashi; --
川里 浩信 KAWASATO, Hironobu; --
稲葉 真司 INABA, Shinji; --
代理人:
特許業務法人北斗特許事務所 HOKUTO PATENT ATTORNEYS OFFICE; 大阪府大阪市北区梅田一丁目12-17梅田スクエアビル Umeda Square Bldg., 12-17, Umeda 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300001, JP
優先権情報:
2017-11469509.06.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, DRY FILM, AND PRINTED WIRING BOARD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM SEC, ET CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ
(JA) 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a photosensitive resin composition which has high resolution and which is capable of forming a cured product having high copper-plating adhesiveness. This photosensitive resin composition is photocurable. The photosensitive resin composition contains: a carboxyl group-containing resin (A) that has an aromatic ring; an organic filler (B) that has an average primary particle size of 1 µm or less and has a carboxyl group; a coupling agent (C) that has at least one type of atom selected from the group consisting of a silicon atom, an aluminum atom, a titanium atom, and a zirconium atom, and that has two or more functional groups including at least one selected from the group consisting of alkoxy groups, acyloxy groups, and alkoxides; and a silica filler (D) that has an average primary particle size within the range of 1-150 nm.
(FR) La présente invention aborde le problème de la fourniture d'une composition de résine photosensible qui a une haute résolution et qui est apte à former un produit durci ayant une forte adhésivité de placage de cuivre. Cette composition de résine photosensible est photodurcissable. La composition de résine photosensible contient : une résine contenant un groupe carboxyle (A) qui a un cycle aromatique; une charge organique (B) qui a une taille de particule primaire moyenne de 1 µm ou moins et a un groupe carboxyle; un agent de couplage (C) qui a au moins un type d'atome choisi dans le groupe constitué par un atome de silicium, un atome d'aluminium, un atome de titane et un atome de zirconium, et qui a deux groupes fonctionnels ou plus comprenant au moins un groupe choisi dans le groupe constitué par des groupes alcoxy, des groupes acyloxy et des alcoxydes; et une charge de silice (D) qui a une taille de particule primaire moyenne dans la plage de 1 à 150 nm.
(JA) 本発明の課題は、高い銅めっき密着性を有する硬化物を形成しうるとともに、解像性に優れた感光性樹脂組成物を提供することである。本発明に係る感光性樹脂組成物は、光硬化性を有する。感光性樹脂組成物は、芳香環を有するカルボキシル基含有樹脂(A)と、平均一次粒子径が1μm以下であり、カルボキシル基を有する有機フィラー(B)と、ケイ素原子、アルミニウム原子、チタン原子、及びジルコニウム原子からなる群から選ばれる少なくとも一種の原子と、二つ以上の官能基とを有し、前記官能基は、アルコキシ基、アシルオキシ基及びアルコキシドからなる群から選ばれる少なくとも一種の基を含むカップリング剤(C)と、平均一次粒子径が1~150nmの範囲内であるシリカフィラー(D)と、を含有する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)