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1. (WO2018225406) 表面欠陥検査装置の配置決定方法、該装置、該プログラムおよび記録媒体
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国際公開番号: WO/2018/225406 国際出願番号: PCT/JP2018/016391
国際公開日: 13.12.2018 国際出願日: 23.04.2018
IPC:
G01N 21/88 (2006.01) ,G01B 11/30 (2006.01) ,G03B 15/00 (2006.01) ,H04N 5/225 (2006.01) ,H04N 7/18 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84
特殊な応用に特に適合したシステム
88
きず,欠陥,または汚れの存在の調査
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11
光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
30
表面の粗さまたは不規則性測定用
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
B
写真を撮影するためのまたは写真を投影もしくは直視するための装置または配置;光波以外の波を用いる類似技術を用いる装置または配置;そのための付属品
15
写真撮影をする特殊方法;その装置
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
5
テレビジョン方式の細部
222
スタジオ回路;スタジオ装置;スタジオ機器
225
テレビジョンカメラ
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
7
テレビジョン方式
18
閉回路テレビジョン方式,すなわち信号が放送されない方式
出願人:
コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番2号 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
発明者:
柏原 将人 KASHIHARA, Masato; JP
脇村 泰三 WAKIMURA, Taizo; JP
代理人:
小谷 悦司 KOTANI, Etsuji; JP
小谷 昌崇 KOTANI, Masataka; JP
櫻井 智 SAKURAI, Satoshi; JP
優先権情報:
2017-11329308.06.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR DETERMINING CONFIGURATION OF SURFACE DEFECT INSPECTION DEVICE, CONFIGURATION DETERMINATION DEVICE, CONFIGURATION DETERMINATION PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE CONFIGURATION DE DISPOSITIF D'INSPECTION DE DÉFAUT DE SURFACE, DISPOSITIF DE DÉTERMINATION DE CONFIGURATION, PROGRAMME DE DÉTERMINATION DE CONFIGURATION ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) 表面欠陥検査装置の配置決定方法、該装置、該プログラムおよび記録媒体
要約:
(EN) In the present invention, the respective placement positions and optical axis directions of an illumination unit and imaging unit are set as first and second configuration information; arithmetic is carried out to determine an image that would be obtained by illuminating the object of inspection including a defect using the illumination unit according to the first configuration information and imaging an inspection area using the imaging unit according to the second configuration information, on the basis of information quantifying the illumination unit, imaging unit, and the appearance of the object of inspection; and the defect is detected on the basis of the image. The present invention repeatedly carries out the above processing while changing at least one from among the first and second configuration information and determines the first and second configuration information with the best detection result as the optimal configuration.
(FR) Dans la présente invention, les positions de placement et les directions d'axe optique respectives d'une unité d'éclairage et d'une unité d'imagerie sont définies en tant que premières et deuxièmes informations de configuration; une opération arithmétique est effectuée pour déterminer une image qui serait obtenue par éclairage de l'objet d'inspection comprenant un défaut au moyen de l'unité d'éclairage selon les premières informations de configuration et imagerie d'une zone d'inspection au moyen de l'unité d'imagerie selon les deuxièmes informations de configuration, sur la base d'informations de quantification de l'unité d'éclairage, l'unité d'imagerie et l'aspect de l'objet d'inspection; et le défaut est détecté sur la base de l'image. La présente invention conduit de façon répétée le traitement ci-dessus tout en modifiant au moins l'une parmi les premières et deuxièmes informations de configuration et détermine les premières et deuxièmes informations de configuration avec le meilleur résultat de détection en tant que configuration optimale.
(JA) 本発明は、照明部及び撮像部それぞれの配置位置及び光軸方向を第1及び第2配置情報として設定し、照明部、撮像部及び欠陥を含む被検査物の外観それぞれを数値化した各情報に基づき第1配置情報による照明部で被検査物を照明し第2配置情報による撮像部で検査領域を撮像して得られる画像を数値演算で求め、この画像に基づき欠陥を検出する。本発明は、上記処理を、第1及び第2配置情報の少なくとも一方を変えて複数回実行し、最良の検出結果の第1及び第2配置情報を最適配置として求める。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)