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1. (WO2018224245) DEVICE FOR ADJUSTING AN OPTICAL ELEMENT
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国際公開番号: WO/2018/224245 国際出願番号: PCT/EP2018/062325
国際公開日: 13.12.2018 国際出願日: 14.05.2018
IPC:
G02B 7/182 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
7
光学要素用のマウント,調節手段,または光密結合
18
プリズム用;反射鏡用
182
反射鏡用
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
発明者:
WUESTNER, Sebastian; DE
NEFZI, Marwene; DE
PNINI-MITTLER, Boaz; DE
HEMBACHER, Stefan; DE
代理人:
LORENZ, Markus; DE
優先権情報:
10 2017 209 794.909.06.2017DE
発明の名称: (EN) DEVICE FOR ADJUSTING AN OPTICAL ELEMENT
(FR) DISPOSITIF POUR L’ORIENTATION D’UN ÉLÉMENT OPTIQUE
(DE) VORRICHTUNG ZUR AUSRICHTUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS
要約:
(EN) The invention relates to a device (1) for adjusting an optical element (2), comprising an actuation device (3) having a plurality of actuation units (4) for adjusting the optical element (2), wherein the actuation units (4) are connected to the optical element (2) via securing points (5) and they exert a force on the optical element (2) in order to adjust the optical element (2). A measuring device (6) is provided for determining parasitic forces (FP) and/or parasitic torques (MP) acting on the optical element (2). A compensation device (7) is also provided, comprising at least one compensation unit (8), wherein the at least one compensation unit (8) applies a compensation force (FK) and/or a compensation torque (MK) to the optical element (2), based on data from the measuring device (6), in order to correct the parasitic forces (FP) and/or the parasitic torques (MP).
(FR) L’invention concerne un dispositif (1) pour l‘orientation d’un élément optique (2), comprenant un dispositif d’actionnement (3) qui comprend une pluralité d’unités d’actionnement (4) pour l’orientation de l’élément optique (2), l’unité d’actionnement (4) étant connectée à l’élément optique (2) par l'intermédiaire des points de fixation (5) et appliquant une force sur l’élément optique (2) pour orienter l’élément optique (2). Un dispositif de mesure (6) est prévu pour la détermination des forces parasites (FP) et/ou couples parasites (MP) agissant sur l'élément optique (2). Un dispositif de compensation (7) comprenant au moins une unité de compensation (8) est aussi prévu, l’au moins une unité de compensation (8) appliquant une force de compensation (FK) et/ou un couple de compensation (MK) sur l’élément optique (2) sur la base de données du dispositif de mesure (6), pour corriger les forces parasites (FP) et/ou les couples parasites (MP).
(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Ausrichtung eines optischen Elements (2), mit einer Betätigungseinrichtung (3) welche eine Mehrzahl von Betätigungseinheiten (4) zur Ausrichtung des optischen Elements (2) aufweist, wobei die Betätigungseinheit (4) über Befestigungspunkte (5) mit dem optischen Element (2) verbunden sind und eine Kraft auf das optische Element (2) aufbringen um das optische Element (2) auszurichten. Vorgesehen ist eine Messeinrichtung (6) zur Bestimmung von auf das optische Element (2) wirkenden parasitären Kräften (FP) und/oder parasitären Momenten (MP). Ferner ist eine Kompensationseinrichtung (7) mit wenigstens einer Kompensationseinheit (8) vorgesehen, wobei die wenigstens eine Kompensationseinheit (8) auf Basis von Daten der Messeinrichtung (6) eine Kompensationskraft (FK) und/oder ein Kompensationsmoment (MK) auf das optische Element (2) aufbringt, um die parasitären Kräfte (FP) und/oder die parasitären Momente (MP) zu korrigieren.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: ドイツ語 (DE)
国際出願言語: ドイツ語 (DE)