このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018221734) 高純度電気銅の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/221734 国際出願番号: PCT/JP2018/021228
国際公開日: 06.12.2018 国際出願日: 01.06.2018
IPC:
C25C 1/12 (2006.01)
[IPC code unknown for C25C 1/12]
出願人:
三菱マテリアル株式会社 MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目3番2号 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117, JP
発明者:
樽谷 圭栄 TARUTANI Yoshie; JP
久保田 賢治 KUBOTA Kenji; JP
中矢 清隆 NAKAYA Kiyotaka; JP
荒井 公 ARAI Isao; JP
代理人:
松沼 泰史 MATSUNUMA Yasushi; JP
寺本 光生 TERAMOTO Mitsuo; JP
細川 文広 HOSOKAWA Fumihiro; JP
大浪 一徳 ONAMI Kazunori; JP
優先権情報:
2017-10924401.06.2017JP
2017-11041802.06.2017JP
2018-09731821.05.2018JP
2018-09731921.05.2018JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY ELECTROLYTIC COPPER
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CUIVRE ÉLECTROLYTIQUE DE PURETÉ ÉLEVÉE
(JA) 高純度電気銅の製造方法
要約:
(EN) This method for producing high-purity electrolytic copper is characterized in that: a first additive (A) which contains an aromatic ring of a hydrophobic group and a polyoxyalkylene group of a hydrophilic group, a second additive (B) comprising a polyvinyl alcohol, and a third additive (C) comprising a tetrazole are added to a copper electrolyte; copper electrolysis is performed by controlling the concentrations of the first additive (A), the second additive (B), and the third additive (C), and by controlling the electric current density and the bath temperature; and as a result, electrolytic copper is produced which exhibits an Ag concentration of less than 0.2 mass ppm, an S concentration of less than 0.07 mass ppm, a total impurity concentration of less than 0.2 mass ppm, and no more than 10% by area ratio of crystal particles exhibiting a grain orientation spread (GOS value) greater than 2.5°.
(FR) La présente invention concerne un procédé de production de cuivre électrolytique de pureté élevée qui est caractérisé en ce que : un premier additif (A) qui contient un cycle aromatique d’un groupe hydrophobe et un groupe polyoxyalkylène d’un groupe hydrophile, un deuxième additif (B) comprenant un alcool polyvinylique, et un troisième additif (C) comprenant un tétrazole sont ajoutés à un électrolyte de cuivre ; une électrolyse de cuivre est effectuée en régulant les concentrations du premier additif (A), du deuxième additif (B) et du troisième additif (C), et en régulant la densité de courant électrique et la température du bain ; et en conséquence, du cuivre électrolytique est produit qui présente une concentration en Ag inférieure à 0,2 ppm en masse, une concentration en S inférieure à 0,07 ppm en masse, une concentration totale en impuretés inférieure à 0,2 ppm en masse, et pas plus de 10 % en rapport de surface de particules cristallines présentant un étalement d’orientation des grains (valeur GOS) supérieur à 2,5°.
(JA) この高純度電気銅の製造方法では、疎水基の芳香族環と親水基のポリオキシアルキレン基を含有する第1添加剤(A)、ポリビニルアルコール類からなる第2添加剤(B)、およびテトラゾール類からなる第3添加剤(C)を銅電解液に添加し、第1添加剤(A)、第2添加剤(B)、および第3添加剤(C)の各濃度、および電流密度と浴温を制御して銅電解を行うことによって、Ag濃度0.2質量ppm未満、S濃度0.07質量ppm未満、および全不純物濃度が0.2質量ppm未満であって、結晶粒内平均方位差(GOS値と云う)が2.5°を超える結晶粒が面積比率で10%以下である電気銅を製造することを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)