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1. (WO2018221575) 下層膜形成用材料、レジスト下層膜、レジスト下層膜の製造方法および積層体

Pub. No.:    WO/2018/221575    International Application No.:    PCT/JP2018/020744
Publication Date: Fri Dec 07 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu May 31 01:59:59 CEST 2018
IPC: G03F 7/11
B32B 27/00
C08G 61/08
Applicants: MITSUI CHEMICALS, INC.
三井化学株式会社
Inventors: INOUE Koji
井上 浩二
ODA Takashi
小田 隆志
KAWASHIMA Keisuke
川島 啓介
Title: 下層膜形成用材料、レジスト下層膜、レジスト下層膜の製造方法および積層体
Abstract:
本発明の下層膜形成用材料は、多層レジストプロセスに用いられるレジスト下層膜を形成するための下層膜形成用材料であって、下記一般式(1)で表される繰返し構造単位[A]および下記一般式(2)で表される繰返し構造単位[B]を有する環状オレフィンポリマーを含み、上記環状オレフィンポリマーにおける上記構造単位[A]と上記構造単位[B]とのモル比[A]/[B]が5/95以上95/5以下である。