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1. (WO2018221531) HTO含有水溶液中のHTO濃度を低減する方法及び装置
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国際公開番号: WO/2018/221531 国際出願番号: PCT/JP2018/020607
国際公開日: 06.12.2018 国際出願日: 29.05.2018
IPC:
G21F 9/06 (2006.01) ,B01D 59/26 (2006.01) ,B01J 20/08 (2006.01) ,B01J 20/10 (2006.01) ,B01J 20/12 (2006.01) ,B01J 20/18 (2006.01) ,B01J 20/28 (2006.01) ,G21F 9/02 (2006.01)
G 物理学
21
核物理;核工学
F
X線,ガンマ線,微粒子線または粒子衝撃に対する防護;放射能汚染物質の処理;そのための汚染除去装置
9
放射性汚染物質の処理;そのための汚染除去装置
04
液体の処理
06
処理方法
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
59
同一化学元素の異なる同位体の分離
22
抽出による分離
26
収着によるもの,すなわち吸収,吸着,過吸着
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
20
固体収着組成物またはろ過助剤組成物;クロマトグラフィー用収着剤;それらの調製,再生または再活性化のためのプロセス
02
無機物からなるもの
06
グループ20/04に分類されない金属の酸化物または水酸化物からなるもの
08
アルミニウムの酸化物または水酸化物からなるもの;ボーキサイトからなるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
20
固体収着組成物またはろ過助剤組成物;クロマトグラフィー用収着剤;それらの調製,再生または再活性化のためのプロセス
02
無機物からなるもの
10
シリカまたはけい酸塩からなるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
20
固体収着組成物またはろ過助剤組成物;クロマトグラフィー用収着剤;それらの調製,再生または再活性化のためのプロセス
02
無機物からなるもの
10
シリカまたはけい酸塩からなるもの
12
天然粘土または漂白土
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
20
固体収着組成物またはろ過助剤組成物;クロマトグラフィー用収着剤;それらの調製,再生または再活性化のためのプロセス
02
無機物からなるもの
10
シリカまたはけい酸塩からなるもの
16
アルミノけい酸塩
18
合成ゼオライト分子ふるい
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
20
固体収着組成物またはろ過助剤組成物;クロマトグラフィー用収着剤;それらの調製,再生または再活性化のためのプロセス
28
形態または物理的性質に特徴のあるもの
G 物理学
21
核物理;核工学
F
X線,ガンマ線,微粒子線または粒子衝撃に対する防護;放射能汚染物質の処理;そのための汚染除去装置
9
放射性汚染物質の処理;そのための汚染除去装置
02
気体の処理
出願人:
学校法人近畿大学 KINKI UNIVERSITY [JP/JP]; 大阪府東大阪市小若江3丁目4番1号 3-4-1, Kowakae, Higashiosaka-shi, Osaka 5778502, JP
株式会社ア・アトムテクノル近大 A ATOM TECHNOL KINDAI [JP/JP]; 大阪府東大阪市小若江3-4-1 3-4-1, Kowakae, Higashiosaka-shi, Osaka 5770818, JP
東洋アルミニウム株式会社 TOYO ALUMINIUM KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区久太郎町三丁目6番8号 6-8, Kyutaro-machi 3-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410056, JP
発明者:
井原 辰彦 IHARA Tatsuhiko; JP
山西 弘城 YAMANISHI Hirokuni; JP
野間 宏 NOMA Hiroshi; JP
平 敏文 TAIRA Toshifumi; JP
星谷 隆嗣 HOSHIYA Takashi; JP
藤本 和也 FUJIMOTO Kazuya; JP
代理人:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
優先権情報:
2017-10518929.05.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD AND DEVICE FOR REDUCING HTO CONCENTRATION IN HTO-CONTAINING AQUEOUS SOLUTION
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE RÉDUCTION DE LA CONCENTRATION DE HTO DANS UNE SOLUTION AQUEUSE CONTENANT DU HTO
(JA) HTO含有水溶液中のHTO濃度を低減する方法及び装置
要約:
(EN) The present invention relates to a method for reducing the HTO concentration in a tritium-containing aqueous solution. The present invention includes bringing water vapor or the like of a tritium-containing aqueous solution into contact with a porous material having pores in a pore diameter range of 500 Å or less, selectively occluding the HTO in the tritium-containing aqueous solution in the porous material, and obtaining a tritium-containing aqueous solution in which the HTO concentration thereof is reduced. The present invention relates to a device used for reducing the HTO concentration in a tritium-containing aqueous solution. The present invention includes a reservoir for a raw tritium-containing aqueous solution, a means for generating water vapor or the like of the tritium-containing aqueous solution, an occlusion means in which is accommodated a porous material having pores in a pore diameter range of 500 Å or less, and a means for recovering the tritium-containing aqueous solution in which the HTO concentration is reduced. The present invention furthermore includes a transfer means for transferring the water vapor or the like to the occlusion means, and a means for transferring the tritium-containing aqueous solution in which the HTO concentration is reduced from the occlusion means to a recovery means.
(FR) La présente invention concerne un procédé de réduction de la concentration de HTO dans une solution aqueuse contenant du tritium. La présente invention consiste à mettre en contact de vapeur d'eau ou analogue d'une solution aqueuse contenant du tritium avec un matériau poreux ayant des pores dans une plage de diamètres de pores de 500 Å ou moins, à occlure sélectivement le HTO dans la solution aqueuse contenant du tritium dans le matériau poreux, et à obtenir une solution aqueuse contenant du tritium dans laquelle la concentration de HTO associée est réduite. La présente invention concerne un dispositif utilisé pour réduire la concentration de HTO dans une solution aqueuse contenant du tritium. La présente invention comprend un réservoir destiné à une solution aqueuse contenant du tritium brut, un moyen de génération de la vapeur d'eau ou analogue de la solution aqueuse contenant du tritium, un moyen d'occlusion dans lequel est logé un matériau poreux ayant des pores dans une plage de diamètres de pores de 500 Å ou moins, et un moyen de récupération de la solution aqueuse contenant du tritium dans laquelle la concentration de HTO est réduite. La présente invention comprend en outre un moyen de transfert permettant de transférer la vapeur d'eau ou analogue au moyen d'occlusion, et un moyen de transfert de la solution aqueuse contenant du tritium dans laquelle la concentration de HTO est réduite du moyen d'occlusion à un moyen de récupération.
(JA) 本発明は、トリチウム含有水溶液中のHTO濃度を低減する方法に関する。トリチウム含有水溶液の水蒸気等を細孔径が500Å以下の範囲にある細孔を有する多孔質体と接触させて、トリチウム含有水溶液のHTOを選択的に前記多孔質体に吸蔵させ、HTO濃度を低減したトリチウム含有水溶液を得ることを含む。本発明は、トリチウム含有水溶液中のHTO濃度を低減するために用いる装置に関する。原料トリチウム含有水溶液のリザーバー、トリチウム含有水溶液の水蒸気等を生成する手段、細孔径が500Å以下の範囲にある細孔を有する多孔質体を格納した吸蔵手段、及びHTO濃度を低減したトリチウム含有水溶液を回収する手段を含む。さらに、前記水蒸気等を吸蔵手段に移送するための移送手段、及び吸蔵手段から回収手段にHTO濃度を低減したトリチウム含有水溶液を移送する手段を含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)