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1. WO2018221436 - 試料保持具

公開番号 WO/2018/221436
公開日 06.12.2018
国際出願番号 PCT/JP2018/020286
国際出願日 28.05.2018
IPC
H01L 21/683 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683支持または把持のためのもの
H05B 3/20 2006.1
H電気
05他に分類されない電気技術
B電気加熱;他に分類されない電気照明
3抵抗加熱
202次元の平面の表面をもつ発熱素子,例.プレートヒータ
CPC
H01L 21/67103
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67098Apparatus for thermal treatment
67103mainly by conduction
H01L 21/6833
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
6831using electrostatic chucks
6833Details of electrostatic chucks
H05B 2203/002
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
2203Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
002Heaters using a particular layout for the resistive material or resistive elements
H05B 3/265
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3Ohmic-resistance heating
20Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater
22non-flexible
26heating conductor mounted on insulating base
265the insulating base being an inorganic material, e.g. ceramic
出願人
  • 京セラ株式会社 KYOCERA CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 赤羽 賢一 AKABANE, Kenichi
優先権情報
2017-10573429.05.2017JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SAMPLE HOLDER
(FR) PORTE-ÉCHANTILLON
(JA) 試料保持具
要約
(EN) A sample holder 10 according to the present disclosure is provided with: a ceramic body 1 which has a sample holding surface 11 on one main surface thereof; and a heating resistor 2 which is provided on the other main surface of the ceramic body 1. A plurality of grooves 3 are provided in a grid pattern on the surface of the heating resistor 2, and the directions in which the plurality of grooves 3 extend differ in each region of the heating resistor 2.
(FR) Un porte-échantillon 10 selon la présente invention comprend : un corps en céramique 1 qui a une surface de support d'échantillon 11 sur une surface principale de celui-ci; et une résistance chauffante 2 qui est disposée sur l'autre surface principale du corps en céramique 1. Une pluralité de rainures 3 sont disposées selon un motif de grille sur la surface de la résistance chauffante 2, et les directions dans lesquelles la pluralité de rainures 3 s'étendent diffèrent dans chaque région de la résistance chauffante 2.
(JA) 本開示の試料保持具10は、一方の主面に試料保持面11を有するセラミック体1と、該セラミック体1の他方の主面に設けられた発熱抵抗体2とを備えており、該発熱抵抗体2の表面には格子状に複数の溝3が設けられているとともに、該複数の溝3の伸びる方向が前記発熱抵抗体2の部位ごとに異なる。
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