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1. (WO2018221290) ゲッタリング層形成装置、ゲッタリング層形成方法及びコンピュータ記憶媒体

Pub. No.:    WO/2018/221290    International Application No.:    PCT/JP2018/019481
Publication Date: Fri Dec 07 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue May 22 01:59:59 CEST 2018
IPC: H01L 21/322
H01L 21/304
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
Inventors: FUKUOKA, Tetsuo
福岡 哲夫
Title: ゲッタリング層形成装置、ゲッタリング層形成方法及びコンピュータ記憶媒体
Abstract:
基板にゲッタリング層を形成するゲッタリング層形成装置は、基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された基板に当接して当該基板を研磨するラッピングフィルムと、前記ラッピングフィルムを支持し、鉛直方向に移動自在且つ回転自在な基台と、前記基板保持部に保持された基板に水を供給する水供給部と、を有する。