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1. (WO2018221274) 位相差フィルム及び製造方法
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国際公開番号: WO/2018/221274 国際出願番号: PCT/JP2018/019346
国際公開日: 06.12.2018 国際出願日: 18.05.2018
IPC:
G02B 5/30 (2006.01) ,B29C 47/14 (2006.01) ,B29C 55/02 (2006.01) ,C08J 5/18 (2006.01) ,C08L 53/02 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
30
偏光要素
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
47
押出成形,すなわち所定の形状を与えるダイまたはノズルを通して成形材料を押し出すもの;そのための装置
08
構成部品,細部または付属装置;補助操作
12
押出ノズルまたはダイ
14
巾広い開口を有するもの,例.シート用
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
55
延伸による成形,例.ダイを通して引き抜くもの;そのための装置
02
板またはシートの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J
仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
5
高分子物質を含む成形品の製造
18
フイルムまたはシートの製造
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
53
炭素―炭素不飽和結合のみが関与する反応によって得られる重合体の連鎖を少なくとも1個含有するブロック共重合体の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
02
ビニル芳香族単量体および共役ジエンの
出願人:
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246, JP
発明者:
浅田 毅 ASADA, Takeshi; JP
摺出寺 浩成 SUDEJI, Hironari; JP
藤井 健作 FUJII, Kensaku; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2017-10864431.05.2017JP
発明の名称: (EN) RETARDATION FILM AND PRODUCTION METHOD
(FR) FILM DE DÉPHASAGE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(JA) 位相差フィルム及び製造方法
要約:
(EN) A retardation film including an alignment layer comprising a resin C having a negative intrinsic birefringence value; and a production method therefor. The resin C has: a block (A) having as the main component thereof a polymerization unit A having a negative birefringence value; and a block (B) having as the main component thereof a polymerization unit B. The retardation film contains a block copolymer having a weight fraction for the block (A) of 50%–90% by weight and an NZ coefficient of greater than 0 and less than 1. Ideally, in the alignment layer, the resin C exhibits a phase-separated structure and the distance between phases in the phase-separated structure is no more than 200 nm.
(FR) L’invention concerne un film de déphasage et un procédé de fabrication de celui-ci. Ce film de déphasage contient une couche d’orientation constituée d’une résine (C) ayant une valeur de biréfringence propre négative. Ladite résine (C) comprend un copolymère séquencé qui possède une séquence (A) ayant pour composant principal une unité polymère A de valeur de biréfringence propre négative, et une séquence (B) ayant pour composant principal une unité polymère B, la fraction de poids de ladite séquence (A) étant supérieure ou égale à 50% en masse et inférieure ou égale à 90% en masse. Le film de déphasage présente un coefficient NZ supérieur à 0 et inférieur à 1. De préférence, dans la couche d’orientation, ladite résine (C) présente une structure de séparation de phases, la distance entre les phases dans cette structure de séparation de phases étant inférieure ou égale à 200nm.
(JA) 負の固有複屈折性値を有する樹脂Cからなる配向層を含む、位相差フィルムであって、前記樹脂Cは、負の固有複屈折値を有する重合単位Aを主成分とするブロック(A)、及び重合単位Bを主成分とするブロック(B)を有し、前記ブロック(A)の重量分率が50重量%以上90重量%以下であるブロック共重合体を含有し、0より大きく、且つ1より小さいNZ係数を有する、位相差フィルム;並びにその製造方法。好ましくは、前記配向層において、前記樹脂Cは相分離構造を呈し、前記相分離構造における相間の距離は200nm以下である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)