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1. (WO2018221134) 平版印刷版原版、平版印刷版原版作製用樹脂組成物、及び、平版印刷版の作製方法
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国際公開番号: WO/2018/221134 国際出願番号: PCT/JP2018/017815
国際公開日: 06.12.2018 国際出願日: 08.05.2018
IPC:
B41N 1/14 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 290/06 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01)
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
1
印刷版またはフォイル;その材料
12
石以外の非金属
14
平版印刷フォイル
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
44
配合成分,例.可塑剤,染料,充填剤,の存在下における重合
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
290
脂肪族不飽和の末端基または側基の導入により変性された重合体に,単量体を重合させて得られる高分子化合物
02
不飽和末端基の導入により変性された重合体への
06
サブクラスC08Gに分類される重合体
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
平野 修史 HIRANO, Shuji; JP
榎本 和朗 ENOMOTO, Kazuaki; JP
野越 啓介 NOGOSHI, Keisuke; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2017-10800331.05.2017JP
2017-21012731.10.2017JP
発明の名称: (EN) LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, RESIN COMPOSITION FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, AND PRODUCTION METHOD FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) PLAQUE ORIGINALE D’IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, COMPOSITION DE RÉSINE POUR FABRICATION DE PLAQUE ORIGINALE D’IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE D’IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
(JA) 平版印刷版原版、平版印刷版原版作製用樹脂組成物、及び、平版印刷版の作製方法
要約:
(EN) A lithographic printing plate precursor that has, on a hydrophilic support body, an image recording layer that includes: a polymer that has a structural unit that comprises a monomer that has a solubility parameter of at least 20 MPa1/2; an infrared absorber; and polymer particles. A composition for producing a lithographic printing plate precursor, the composition including the abovementioned polymer, infrared absorber, and polymer particles. A method for producing a lithographic printing plate using the abovementioned lithographic printing plate precursor.
(FR) L’invention concerne une plaque originale d’impression lithographique présentant une couche d’enregistrement d'image sur un support hydrophile, la couche d’enregistrement d'image contenant un polymère possédant un motif structural constitué d'un monomère dont le coefficient de solubilité est égal ou supérieur à 20MPa1/2, un agent absorbant le rayonnement infrarouge et des particules polymères. L’invention concerne également une composition de résine pour fabrication d’une plaque originale d’impression lithographique, laquelle composition de résine contient le polymère susmentionné, l’agent absorbant le rayonnement infrarouge et des particules polymères. L’invention concerne enfin un procédé de fabrication d'une plaque lithographique mettant en oeuvre la plaque originale d’impression lithographique susmentionnée.
(JA) 親水性支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、溶解度パラメーターが20MPa1/2以上であるモノマーからなる構成単位を有する重合体、赤外線吸収剤、及び、ポリマー粒子を含む平版印刷版原版;上記重合体、赤外線吸収剤、及び、ポリマー粒子を含む平版印刷版原版作製用樹脂組成物;並びに上記平版印刷版原版を用いる平版印刷版の作製方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)