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1. (WO2018221115) 露光装置および基板処理装置
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国際公開番号: WO/2018/221115 国際出願番号: PCT/JP2018/017408
国際公開日: 06.12.2018 国際出願日: 01.05.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
677
移送のためのもの,例.異なるワ―クステーション間での移送
出願人:
株式会社SCREENホールディングス SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1 Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585, JP
発明者:
福本 靖博 FUKUMOTO, Yasuhiro; JP
大木 孝文 OKI, Takafumi; JP
松尾 友宏 MATSUO, Tomohiro; JP
浅井 正也 ASAI, Masaya; JP
春本 将彦 HARUMOTO, Masahiko; JP
田中 裕二 TANAKA, Yuji; JP
中山 知佐世 NAKAYAMA, Chisayo; JP
代理人:
福島 祥人 FUKUSHIMA, Yoshito; JP
優先権情報:
2017-10567329.05.2017JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 露光装置および基板処理装置
要約:
(EN) An exposure device comprises: a processing chamber that accommodates a substrate; a light source unit provided so as to be able to irradiate vacuum UV rays downward into the processing chamber; a mounting part on which the substrate is mounted inside the processing chamber and below the light source unit; and a raising/lowering unit that raises and lowers the mounting part. The raising/lowering unit raises and lowers the mounting part so that the mounting part is in a first position when the substrate is conveyed into the processing chamber and the substrate is conveyed out of the processing chamber, and the mounting part is in a second position, which is above the first position, when the substrate is irradiated with vacuum UV rays by the light source unit. The raising/lowering unit includes: a plurality of support shafts that support the mounting part; a connecting member that connects the plurality of support shafts to each other; a raising/lowering drive mechanism that raises and lowers the connecting member; a vertically extending guide member; and a movement unit that is provided to the connecting member to enable movement in the vertical direction along the guide member.
(FR) Selon l'invention, un dispositif d'exposition comprend : une chambre de traitement qui loge un substrat ; une unité de source de lumière disposée de façon à pouvoir irradier des rayons UV sous vide vers le bas dans la chambre de traitement ; une partie de montage sur laquelle le substrat est monté à l'intérieur de la chambre de traitement et au-dessous de l'unité de source de lumière ; et une unité d'élévation/abaissement qui élève et abaisse la partie de montage. L'unité d'élévation/abaissement lève et abaisse la partie de montage de telle sorte que la partie de montage se trouve dans une première position lorsque le substrat est transporté dans la chambre de traitement et lorsque le substrat est transporté hors de la chambre de traitement, et la partie de montage se trouve dans une seconde position, qui est au-dessus de la première position, lorsque le substrat est irradié avec des rayons UV sous vide par l'unité de source de lumière. L'unité d'élévation/abaissement comprend : une pluralité d'arbres de support qui supportent la partie de montage ; un élément de liaison qui relie la pluralité d'arbres de support les uns aux autres ; un mécanisme d'entraînement d'élévation/abaissement qui élève et abaisse l'élément de liaison ; un élément de guidage s'étendant verticalement ; et une unité de déplacement qui est disposée sur l'élément de liaison pour permettre un mouvement dans la direction verticale le long de l'élément de guidage.
(JA) 露光装置は、基板を収容する処理室と、処理室内に向けて下方に真空紫外線を照射可能に設けられた光源部と、処理室内でかつ光源部の下方で基板が載置される載置部と、載置部を昇降させる昇降部とを備える。昇降部は、処理室内への基板の搬入および処理室外への基板の搬出の際に載置部が第1の位置にあり、光源部による基板への真空紫外線の照射の際に載置部が第1の位置よりも上方の第2の位置にあるように、載置部を昇降させる。この昇降部は、載置部を支持する複数の支持軸と、複数の支持軸を互いに連結する連結部材と、連結部材を昇降させる昇降駆動機構と、上下方向に延びる案内部材と、案内部材に沿って上下方向に移動可能に連結部材に設けられる移動部とを含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)