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1. (WO2018220979) 金属電着用陰極板及びその製造方法
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国際公開番号: WO/2018/220979 国際出願番号: PCT/JP2018/013187
国際公開日: 06.12.2018 国際出願日: 29.03.2018
予備審査請求日: 24.08.2018
IPC:
C25C 7/02 (2006.01) ,C23F 1/02 (2006.01) ,C25C 1/08 (2006.01) ,C25D 17/12 (2006.01)
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
C
金属の電解製造,回収または精製方法;そのための装置
7
電解槽の構造部品またはその組立体;電解槽の保守または操作
02
電極;電極の接続具
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
F
機械方法によらない表面からの金属質材料の除去;金属質材料の防食;鉱皮の抑制一般;少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程
1
化学的手段による金属質材料のエッチング
02
部分的エッチング
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
C
金属の電解製造,回収または精製方法;そのための装置
1
溶液の電気分解による金属の電解製造,回収または精製
06
鉄族金属,耐火金属またはマンガン
08
ニッケルまたはコバルト
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
17
電解被覆用槽の構造部品またはその組立体
10
電極
12
形状または型
出願人:
住友金属鉱山株式会社 SUMITOMO METAL MINING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都港区新橋5-11-3 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716, JP
発明者:
渡邉 寛人 WATANABE Hiroto; JP
松岡 いつみ MATSUOKA Itsumi; JP
仙波 祐輔 SENBA Yusuke; JP
小林 宙 KOBAYASHI Hiroshi; JP
代理人:
正林 真之 SHOBAYASHI Masayuki; JP
林 一好 HAYASHI Kazuyoshi; JP
優先権情報:
2017-10579629.05.2017JP
発明の名称: (EN) CATHODE PLATE FOR METAL ELECTRODEPOSITION AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME
(FR) PLAQUE DE CATHODE POUR ÉLECTRODÉPOSITION DE MÉTAL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 金属電着用陰極板及びその製造方法
要約:
(EN) Provided are: a cathode plate for metal electrodeposition which makes it less likely to lose a non-conductive film on a metal plate, which can be used repeatedly, and for which maintenance is easy even if a non-conductive film is lost; and a manufacturing method for such cathode plate. This cathode plate 1 includes a metal plate 2 on which a plurality of disk-shaped projections 2a are arranged, and a non-conductive film 3 formed in flat sections 2b which are sections of the metal plate 2 other than the projections 2a. The projections 2a each have a side face that has a shape formed of a substantially vertical section 2d and an inclined section 2e. A height L1 of each projection 2a is 50µm to 1000µm, and when an intersection of the side face of the projection and a vertical line that is vertically lowered from a position X that is 20µm outward from the outer peripheral edge of the projection is defined as Y, then a length L2 from X to Y is at least 40µm but not more than 0.8×L1µm.
(FR) L'invention concerne : une plaque de cathode pour électrodéposition de métal rendant moins susceptible de perdre un film non conducteur sur une plaque métallique, pouvant être utilisée de manière répétée, et pour laquelle une maintenance est facile même si un film non conducteur est perdu ; et un procédé de fabrication pour une telle plaque de cathode. Cette plaque de cathode 1 comprend une plaque métallique 2 sur laquelle sont disposées une pluralité de saillies en forme de disque 2a, et un film non conducteur 3 formé dans des sections plates 2b qui sont des sections de la plaque métallique 2 autres que les saillies 2a. Les saillies 2a ont chacune une face latérale qui a une forme formée d'une section sensiblement verticale 2d et d'une section inclinée 2e. Une hauteur L1 de chaque saillie 2a est de 50 µm à 1000 µm, et lorsqu'une intersection de la face latérale de la saillie et d'une ligne verticale qui est abaissée verticalement à partir d'une position X qui est de 20 µm vers l'extérieur depuis le bord périphérique externe de la saillie est définie comme Y, alors une longueur L2 de X à Y est d'au moins 40 µm mais inférieure ou égale à 0,8 × L1 µm.
(JA) 金属板上の非導電膜が欠落しにくく、繰り返し使用可能で、且つ非導電膜が欠落した場合であっても整備が容易な金属電着用陰極板及びその製造方法を提供する。 本発明の陰極板1は、複数の円盤状の突起部2aが配列している金属板2と、金属板2の突起部2a以外の平坦部2bに形成される非導電膜3と、を有し、突起部2aは、その側面が、略垂直部2dと傾斜部2eとからなる形状を有している。また、突起部2aの高さL1は、50μm以上1000μm以下であり、突起部の外周縁から外側に20μm離れた位置Xから垂直に下ろした垂線と側面との交点をYとするとき、XからYまでの長さL2は、40μm以上であり0.8×L1μm以下である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)