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1. (WO2018216714) 無電解めっきの前処理用組成物、無電解めっきの前処理方法、無電解めっき方法
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国際公開番号: WO/2018/216714 国際出願番号: PCT/JP2018/019776
国際公開日: 29.11.2018 国際出願日: 23.05.2018
IPC:
C23C 18/30 (2006.01) ,C23C 18/24 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
18
液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの;接触メッキ
16
還元または置換によるもの,例.無電解メッキ
18
被覆される材料の前処理
20
有機質表面の前処理,例.樹脂
28
増感処理または活性化処理
30
活性化処理
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
18
液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの;接触メッキ
16
還元または置換によるもの,例.無電解メッキ
18
被覆される材料の前処理
20
有機質表面の前処理,例.樹脂
22
粗面化,例.エッチングによるもの
24
酸性水溶液を用いるもの
出願人:
奥野製薬工業株式会社 OKUNO CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区道修町4丁目7番10号 4-7-10, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045, JP
発明者:
永峯 伸吾 NAGAMINE, Shingo; JP
北 晃治 KITA, Koji; JP
代理人:
特許業務法人三枝国際特許事務所 SAEGUSA & PARTNERS; 大阪府大阪市中央区道修町1-7-1 北浜TNKビル Kitahama TNK Building, 1-7-1, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045, JP
優先権情報:
2017-10210623.05.2017JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR PRETREATMENT FOR ELECTROLESS PLATING, PRETREATMENT METHOD FOR ELECTROLESS PLATING, AND ELECTROLESS PLATING METHOD
(FR) COMPOSITION DE PRÉTRAITEMENT POUR DÉPOSITION AUTOCATALYTIQUE, PROCÉDÉ DE PRÉTRAITEMENT POUR DÉPOSITION AUTOCATALYTIQUE, ET PROCÉDÉ DE DÉPOSITION AUTOCATALYTIQUE
(JA) 無電解めっきの前処理用組成物、無電解めっきの前処理方法、無電解めっき方法
要約:
(EN) The present invention provides: a composition for pretreatment for electroless plating, which is capable of exhibiting high plating deposition performance without using harmful chromic acid and expensive palladium, while enabling reduction of the number of steps; a pretreatment method; and an electroless plating method. The present invention provides a composition for pretreatment for electroless plating, which is characterized by containing 10 mg/L or more of manganese ions and 10 mg/L or more of monovalent silver ions.
(FR) L’invention fournit une composition de prétraitement pour déposition autocatalytique pouvant présenter des propriétés élevées de déposition sans mise en œuvre d’un acide chromique nocif ni d’un palladium cher, et permettant de réduire un processus. L’invention fournit également un procédé de prétraitement et un procédé de déposition autocatalytique. La composition de prétraitement pour déposition autocatalytique de l’invention est caractéristique en ce qu’elle comprend 10mg/L ou plus d’ions manganèse et 10mg/L ou plus d’ions argent monovalents.
(JA) 本発明は、有害なクロム酸及び高価なパラジウムを使用することなく、高いめっきの析出性を示すことができ、且つ、工程を少なくすることが可能な無電解めっきの前処理用組成物、前処理方法、及び無電解めっき方法を提供する。 本発明は、10mg/L以上のマンガンイオン及び10mg/L以上の1価の銀イオンを含有することを特徴とする無電解めっきの前処理用組成物を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)