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1. (WO2018216631) 成膜方法及び成膜装置
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国際公開番号: WO/2018/216631 国際出願番号: PCT/JP2018/019373
国際公開日: 29.11.2018 国際出願日: 18.05.2018
IPC:
B05D 1/04 (2006.01) ,B05B 5/025 (2006.01) ,B05D 1/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
1
液体または他の流動性材料を適用する方法
02
噴霧によって行なわれるもの
04
静電界の使用を含むもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
B
霧化装置;噴霧装置;ノズル
5
静電噴霧装置;電気的に噴霧を荷電させる手段を有する噴霧装置;他の電気的手段により液体または他の流動性材料を噴霧する装置
025
放出装置,例.静電噴霧ガン
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
1
液体または他の流動性材料を適用する方法
32
表面のある部分を被覆されないように保護する手段を用いるもの,例.ステンシル,レジストを用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
株式会社オプトニクス精密 OPTNICS PRECISION CO., LTD. [JP/JP]; 栃木県足利市富士見町26 26, Fujimi-cho, Ashikaga-shi, Tochigi 3260037, JP
発明者:
絹田 精鎮 KINUTA, Seichin; JP
代理人:
中島 淳 NAKAJIMA, Jun; JP
加藤 和詳 KATO, Kazuyoshi; JP
福田 浩志 FUKUDA, Koji; JP
優先権情報:
2017-10206823.05.2017JP
発明の名称: (EN) FILM-FORMING METHOD AND FILM-FORMING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜方法及び成膜装置
要約:
(EN) In the present invention, a substrate is provided at a bottom section of a tank, a mask is provided on the substrate, with an insulator interposed therebetween, electrically-charged microparticles that serve as a film-forming material are sprayed into the space in the tank, the substrate is conferred a reverse polarity potential from the electrically-charged microparticles, and the mask is conferred the same polarity potential as the electrically-charged microparticles, thereby making the microparticles deposit on the substrate and form a film.
(FR) Selon la présente invention, un substrat est disposé au niveau d’une section inférieure d’une cuve, un masque est disposé sur le substrat, avec un isolant intercalé entre eux, des microparticules électriquement chargées qui servent de matériau de formation de film sont pulvérisées dans l’espace dans la cuve, il est conféré au substrat un potentiel de polarité inverse à partir des microparticules électriquement chargées, et il est conféré au masque le même potentiel de polarité que les microparticules électriquement chargées, effectuant ainsi le dépôt des microparticules sur le substrat et formant un film.
(JA) 槽の下部に基板を設けるとともにこの基板の上に絶縁体を介してマスクを設け、槽の空間内に成膜材料となる帯電した微粒子を噴霧するとともに基板には帯電した微粒子と逆極性の電位を与え、マスクには帯電した微粒子と同極性の電位を与えることにより、基板の上に微粒子を堆積させて成膜を形成するようにしたものである。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)