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1. (WO2018216570) ネガ型感光性樹脂組成物および硬化膜
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国際公開番号: WO/2018/216570 国際出願番号: PCT/JP2018/018947
国際公開日: 29.11.2018 国際出願日: 16.05.2018
IPC:
G03F 7/075 (2006.01) ,C03C 17/30 (2006.01) ,C08G 65/18 (2006.01) ,C08G 77/14 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
075
シリコン含有化合物
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17
繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
28
有機物質によるもの
30
けい素含有化合物によるもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
65
高分子の主鎖にエーテル連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
02
複素環の開環による環状エーテルからの
04
環状エーテルのみからの
06
環外に炭素および水素以外の原子を有しない環状エーテル
16
4個またはそれ以上の環形成原子を有する環状エーテル
18
オキセタン
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
77
高分子の主鎖にいおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずにけい素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
04
ポリシロキサン
14
酸素含有基に結合したけい素を含むもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
出願人:
東レ株式会社 TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 東京都中央区日本橋室町2丁目1番1号 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666, JP
発明者:
福▲崎▼ 雄介 FUKUZAKI, Yusuke; JP
飯森 弘和 IIMORI, Hirokazu; JP
井上 欣彦 INOUE, Yoshihiko; JP
優先権情報:
2017-10229324.05.2017JP
2017-10229424.05.2017JP
発明の名称: (EN) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE NÉGATIVE ET FILM DURCI
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物および硬化膜
要約:
(EN) A negative photosensitive resin composition which contains (A) a siloxane resin having a radically polymerizable group and a carboxyl group and/or a dicarboxylic acid anhydride group, (B) a reactive monomer, (C) a radical photopolymerization initiator, (D) silica particles and (E) a siloxane compound having an oxetanyl group. The present invention provides a negative photosensitive resin composition which is capable of forming a cured film that has high glass surface strength, while exhibiting excellent adhesion to an inorganic film or to an organic film.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible négative qui contient (A) une résine de siloxane comprenant un groupe polymérisable par voie radicalaire et un groupe carboxyle et/ou un groupe anhydride d'acide dicarboxylique, (B) un monomère réactif, (C) un initiateur de photopolymérisation radicalaire, (D) des particules de silice et (E) un composé siloxane comprenant un groupe oxétanyle. La présente invention concerne une composition de résine photosensible négative qui est susceptible de former un film durci présentant une résistance de surface vitreuse élevée, tout en présentant une excellente adhérence à un film inorganique ou à un film organique.
(JA) (A)ラジカル重合性基とカルボキシル基および/またはジカルボン酸無水物基とを有するシロキサン樹脂、(B)反応性モノマ、(C)光ラジカル重合開始剤、(D)シリカ粒子および(E)オキセタニル基を有するシロキサン化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物。 ガラス面強度が高く、無機膜や有機膜との密着性に優れる硬化膜を形成することができるネガ型感光性樹脂組成物を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)