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1. (WO2018216426) ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンの製造方法
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国際公開番号: WO/2018/216426 国際出願番号: PCT/JP2018/016881
国際公開日: 29.11.2018 国際出願日: 25.04.2018
IPC:
C07C 17/23 (2006.01) ,C07C 21/18 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
17
ハロゲン化された炭化水素の製造
23
脱ハロゲン化によるもの
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
21
ハロゲン原子を含有する非環式不飽和化合物
02
炭素―炭素二重結合を含有するもの
18
フッ素を含有するもの
出願人:
昭和電工株式会社 SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 東京都港区芝大門一丁目13番9号 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518, JP
発明者:
福地 陽介 FUKUCHI Yohsuke; JP
中村 敦 NAKAMURA Atsushi; JP
井上 希 INOUE Nozomi; JP
日野 光宏 HINO Mitsuhiro; JP
関口 友己 SEKIGUCHI Tomoki; JP
代理人:
森 哲也 MORI Tetsuya; JP
田中 秀▲てつ▼ TANAKA Hidetetsu; JP
優先権情報:
2017-10106322.05.2017JP
発明の名称: (EN) PRODUCTION METHOD FOR HEXAFLUORO-1,3-BUTADIENE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'HEXAFLUORO-1,3-BUTADIÈNE
(JA) ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンの製造方法
要約:
(EN) Provided is a low-waste, industrially applicable production method for hexafluoro-1,3-butadiene. The production method for hexafluoro-1,3-butadiene comprises: a reaction step for reacting a butyl halide represented by the chemical formula CF2X1-CFX2-CFX3-CF2X4 (in which X1, X2, X3, and X4 each independently represent a halogen atom that is not a fluorine atom) in an organic solvent in the presence of zinc, eliminating the halogen atoms (X1, X2, X3, X4) that are not fluorine atoms to generate hexafluoro-1,3-butadiene, and obtaining a product that contains hexafluoro-1,3-butadiene; and a post-processing step for separating the hexafluoro-1,3-butadiene from the product obtained in the reaction step and then adding water to what is left of the product after the separation and removing the organic solvent to obtain an aqueous solution of a zinc halide.
(FR) L'invention concerne un procédé de production d'hexafluoro-1,3-butadiène à faible perte et applicable à l'échelle industrielle. Le procédé de production d'hexafluoro-1,3-butadiène de la présente invention consiste à : une étape de réaction pour faire réagir un halogénure de butyle représenté par la formule chimique CF2X1-CFX2-CFX3-CF2X4 (dans laquelle X1, X2, X3 et X4 chacun indépendamment représente un atome d'halogène qui n'est pas un atome de fluor) dans un solvant organique en présence de zinc, éliminer les atomes d'halogène (X1, X2, X3, X4) qui ne sont pas des atomes de fluor pour générer un hexafluoro-1,3-butadiène, et obtenir un produit contenant de l'hexafluoro-1,3-butadiène ; et une étape post-traitement pour séparer l'hexafluoro-1,3-butadiène du produit obtenu dans l'étape de réaction, puis ajouter de l'eau au reste du produit après la séparation et l'élimination du solvant organique pour obtenir une solution aqueuse d'un halogénure de zinc.
(JA) 産業廃棄物の排出量が少なく工業的に利用可能なヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンの製造方法を提供する。ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンの製造方法は、CF-CFX-CFX-CF(X、X、X、及びXは、それぞれ独立して、フッ素原子以外のハロゲン原子を示す)なる化学式で表されるハロゲン化ブタンを、有機溶剤中、亜鉛存在下で反応させ、フッ素原子以外のハロゲン原子X、X、X、Xを脱離させてヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンを生じさせ、ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンを含有する反応物を得る反応工程と、反応工程で得られた反応物からヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンを分離した後に、その分離後の反応物残分に水を添加し、さらに有機溶剤を除去してハロゲン化亜鉛水溶液を得る後処理工程と、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)