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1. (WO2018216227) 膜構造体及びその製造方法

Pub. No.:    WO/2018/216227    International Application No.:    PCT/JP2017/020527
Publication Date: Fri Nov 30 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat May 27 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 41/319
H01L 21/316
H01L 41/187
H01L 41/316
H01L 41/317
H01L 41/43
Applicants: ADVANCED MATERIAL TECHNOLOGIES, INC.
アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社
Inventors: KIJIMA Takeshi
木島 健
Title: 膜構造体及びその製造方法
Abstract:
基板上に形成された導電膜と、導電膜上に形成された圧電膜と、を有する膜構造体において、圧電膜の圧電定数を増加させることができる膜構造体を提供する。膜構造体の製造方法は、基板11上に、立方晶の結晶構造を有し、且つ、(100)配向した白金を含む導電膜13を形成し、導電膜13を450〜600℃の温度で熱処理した後、Sr(Ti1−xRux)O3で表される第1複合酸化物を含む膜14を介して、Pb(Zr1−yTiy)O3で表される第2複合酸化物を含む膜15を形成する工程を有する。xは、0≦x≦1を満たし、yは、0≦y≦0.1を満たす。