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1. (WO2018216057) 光パターン生成装置

Pub. No.:    WO/2018/216057    International Application No.:    PCT/JP2017/018983
Publication Date: Fri Nov 30 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue May 23 01:59:59 CEST 2017
IPC: G02B 27/42
G02B 5/18
Applicants: MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
三菱電機株式会社
Inventors: TAKADA, Yukari
▲高▼田 ゆかり
YANAGISAWA, Takayuki
柳澤 隆行
Title: 光パターン生成装置
Abstract:
この発明の光パターン生成装置(100)は、第1のレーザ光を出射する第1のレーザ光源(1)と、前記第1のレーザ光の進行方向に垂直な平面上の位置に応じて前記第1のレーザ光の位相を変更し、位相分布をもつレーザ光を出射する第1の回折光学素子(2a)と、入射されるレーザ光の進行方向に垂直な平面上の位置に応じて前記入射されるレーザ光の位相を変更し、光パターンを形成するレーザ光を出射する第2の回折光学素子(2b)と、前記第1及び前記第2の回折光学素子の間に配置され、前記第1の回折光学素子(2a)から出射されるレーザ光の位相分布を前記第2の回折光学素子(2b)に入射されるレーザ光の位相分布に転写する転写光学系(3)と、を備えたことを特徴とする。 この構成により、1枚目の回折光学素子(2a)の出力光の伝搬による波面変化を考慮することなく、簡易に2枚目の回折光学素子(2b)の設計を行える。