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1. (WO2018212116) リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法

Pub. No.:    WO/2018/212116    International Application No.:    PCT/JP2018/018463
Publication Date: Fri Nov 23 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue May 15 01:59:59 CEST 2018
IPC: G03F 7/11
C08F 22/40
C08L 101/02
G03F 7/20
G03F 7/26
Applicants: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
三菱瓦斯化学株式会社
Inventors: OKADA, Kana
岡田 佳奈
HORIUCHI, Junya
堀内 淳矢
MAKINOSHIMA, Takashi
牧野嶋 高史
ECHIGO, Masatoshi
越後 雅敏
Title: リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法
Abstract:
本発明は、下記式(0)の基:を有する化合物を含有する、リソグラフィー用膜形成材料を提供する。