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1. (WO2018212079) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法

Pub. No.:    WO/2018/212079    International Application No.:    PCT/JP2018/018239
Publication Date: Fri Nov 23 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat May 12 01:59:59 CEST 2018
IPC: G03F 7/039
C08F 12/12
C08F 22/02
C08F 22/10
G03F 7/004
G03F 7/20
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: HATAKEYAMA Naoya
畠山 直也
YONEKUTA Yasunori
米久田 康智
YOSHIMURA Tsutomu
吉村 務
HIGASHI Kohei
東 耕平
NISHIDA Yoichi
西田 陽一
Title: 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
Abstract:
エッチングの際に、耐クラック性及び耐エッチング性に優れたマスクとして適用できるパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、樹脂を含有する、固形分濃度が10質量%以上の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、上記樹脂は、ホモポリマーとしたときのガラス転移温度が50℃以下であるモノマーを由来とする繰り返し単位Aと、酸分解性基を有する繰り返し単位Bとを含み、上記繰り返し単位Bの含有量が、樹脂中の全繰り返し単位に対して20モル%以下であり、且つ、上記樹脂が有する繰り返し単位のいずれか少なくとも1種が、芳香族環を有する繰り返し単位である。