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1. (WO2018211967) 基板搬出方法
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国際公開番号: WO/2018/211967 国際出願番号: PCT/JP2018/017373
国際公開日: 22.11.2018 国際出願日: 01.05.2018
IPC:
H01L 21/677 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
677
移送のためのもの,例.異なるワ―クステーション間での移送
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66
製造または処理中の試験または測定
出願人:
東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 東京都港区赤坂五丁目3番1号 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
発明者:
遠藤 朋也 ENDO, Tomoya; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2017-09659415.05.2017JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE TRANSPORTATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE TRANSPORT DE SUBSTRAT
(JA) 基板搬出方法
要約:
(EN) This substrate transportation method comprises: a first transfer step for transferring a camera to above a predetermined region where a perimeter of a substrate is to be located in a state in which the substrate is lifted by a pin projecting from a mounting table, while a transfer mechanism is moving to the mounting table by an instruction for starting transporting the substrate mounted on the mounting table being issued to the transfer mechanism; a first photographing step for causing the camera having been moved in the first transfer step to photograph the predetermined region where the perimeter of the substrate is to be located; and a first detection step for detecting for misalignment and/or tilt of the substrate having been lifted by the pin, on the basis of an image photographed by the camera in the first photographing step.
(FR) La présente invention concerne un procédé de transport de substrat comprenant : une première étape de transfert consistant à transférer une caméra au-dessus d'une région prédéterminée où doit être localisé un périmètre d'un substrat dans un état dans lequel le substrat est soulevé par une broche faisant saillie à partir d'une table de montage, tandis qu'un mécanisme de transfert se déplace vers la table de montage au moyen d'une instruction de démarrage du transport le substrat monté sur la table de montage délivrée au mécanisme de transfert; une première étape de photographie consistant à amener la caméra qui a été déplacée dans la première étape de transfert à photographier la région prédéterminée où doit être localisé le périmètre du substrat; et une première étape de détection consistant à détecter un mauvais alignement et/ou une inclinaison du substrat qui a été soulevé par la broche, à partir d'une image photographiée par la caméra dans la première étape de photographie.
(JA) 基板搬出方法は、載置台に載置された基板の搬出開始の指令が搬送機構へ発行されて搬送機構が載置台へ移動している間に、載置台から突出するピンによって基板が持ち上げられた状態で、基板の周縁部が存在すべき所定領域の上方にカメラを移動させる第1の移動工程と、第1の移動工程で移動したカメラに、基板の周縁部が存在すべき所定領域を撮影させる第1の撮影工程と、第1の撮影工程でカメラによって撮影された画像に基づいて、ピンによって持ち上げられた基板の位置ずれ及び/又は傾きを検出する第1の検出工程とを含む。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)