このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018211720) シラノール化合物及び水素の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/211720 国際出願番号: PCT/JP2017/033373
国際公開日: 22.11.2018 国際出願日: 08.09.2017
IPC:
C01B 3/02 (2006.01) ,B01J 27/18 (2006.01) ,C07B 61/00 (2006.01) ,C07F 7/04 (2006.01)
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
3
水素;水素を含有する混合ガス;水素を含有する混合物からのそれの分離;水素の精製
02
水素または水素含有混合ガスの製造
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
27
ハロゲン,硫黄,セレン,テルル,りん,窒素またはそれらの化合物からなる触媒;炭素化合物からなる触媒
14
りん;その化合物
16
酸素を含有するもの
18
金属を有するもの
C 化学;冶金
07
有機化学
B
有機化学の一般的方法あるいはそのための装置
61
他の一般的方法
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
7
周期律表の第4族の元素を含有する化合物
02
ケイ素化合物
04
ケイ酸のエステル
出願人:
国立大学法人 大阪大学 OSAKA UNIVERSITY [JP/JP]; 大阪府吹田市山田丘1番1号 1-1, Yamadaoka, Suita-shi, Osaka 5650871, JP
株式会社ダイセル DAICEL CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市北区大深町3番1号 3-1, Ofuka-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300011, JP
発明者:
金田 清臣 KANEDA, Kiyotomi; JP
満留 敬人 MITSUDOME, Takato; JP
梶川 泰照 KAJIKAWA, Yasuteru; JP
平井 雄一郎 HIRAI, Yuuichirou; JP
小野 圭輔 ONO, Keisuke; JP
代理人:
特許業務法人後藤特許事務所 GOTO & CO.; 大阪府大阪市北区紅梅町2番18号 2-18, Kobai-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300038, JP
優先権情報:
2017-09638115.05.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING SILANOL COMPOUND AND HYDROGEN
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ SILANOL ET D'HYDROGÈNE
(JA) シラノール化合物及び水素の製造方法
要約:
(EN) Provided is a method with which it is possible to produce hydrogen at a desired rate using a hydrogen storage material that can be safely stored and transported at low cost. In this method for producing a silanol compound and hydrogen, a hydrosilane compound and water are reacted in the presence of a solid catalyst in which gold particles having an average particle size of 2.5 nm or less are supported on hydroxyapatite to obtain a silanol compound and hydrogen. In this method for producing a silanol compound and hydrogen, the reaction is preferably performed in an air atmosphere. In this method for producing a silanol compound and hydrogen, the reaction may be performed substantially without heating and without irradiating active energy rays.
(FR) Procédé par lequel il est possible de produire de l'hydrogène à un taux souhaité à l'aide d'un matériau de stockage d'hydrogène qui peut être stocké et transporté en toute sécurité, à faible coût. Selon ce procédé de production d'un composé silanol et d'hydrogène, un composé hydrosilane et de l'eau réagissent en présence d'un catalyseur solide dans lequel des particules d'or ayant une taille moyenne de particule de 2,5 nm ou moins sont supportées sur hydroxyapatite pour obtenir un composé silanol et de l'hydrogène. Selon ce procédé de production d'un composé silanol et d'hydrogène, la réaction est de préférence effectuée dans une atmosphère d'air. Dans ce procédé de production d'un composé silanol et d'hydrogène, la réaction peut être effectuée essentiellement sans chauffage ni rayonnement d'énergie active.
(JA) 安全、且つ低コストで貯蔵、運搬することができる水素貯蔵物質を使用して、所望の速度で水素を生成することができる方法を提供する。 本発明のシラノール化合物及び水素の製造方法は、平均粒子径が2.5nm以下の金粒子がハイドロキシアパタイトに担持されてなる固体触媒の存在下、ヒドロシラン化合物と水とを反応させてシラノール化合物と水素とを得る。本発明のシラノール化合物及び水素の製造方法は、空気雰囲気下で反応を行うことが好ましい。本発明のシラノール化合物及び水素の製造方法は、実質的に加熱することなく且つ活性エネルギー線を照射することなく反応を行うことができる。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)