このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018211703) 蒸着方法、蒸着装置、ELデバイスの製造装置、及びELデバイスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/211703 国際出願番号: PCT/JP2017/018890
国際公開日: 22.11.2018 国際出願日: 19.05.2017
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/54 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/14 (2006.01)
[IPC code unknown for C23C 14/04][IPC code unknown for C23C 14/24][IPC code unknown for C23C 14/54][IPC code unknown for H01L 27/32][IPC code unknown for H01L 51/50][IPC code unknown for H05B 33/10][IPC code unknown for H05B 33/14]
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
中島 信作 NAKAJIMA, Shinsaku; --
藤原 聖士 FUJIWARA, Seiji; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) VAPOR DEPOSITION METHOD, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, EL DEVICE PRODUCTION APPARATUS, AND EL DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, APPAREIL DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, APPAREIL DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT
(JA) 蒸着方法、蒸着装置、ELデバイスの製造装置、及びELデバイスの製造方法
要約:
(EN) Provided is a vapor deposition method including: a fixing step for fixing a vapor deposition mask (3) on a mask frame (2); a raising step for placing a substrate (4) on the vapor deposition mask (3) and raising the mask frame (2) such that the substrate (4) comes into contact with a touch plate (5) disposed above the mask frame (2); and a measuring step for measuring the thickness of the mask frame (2). In the raising step, the amount the mask frame (2) is raised is determined on the basis of the thickness of the mask frame (2) measured by the measuring step.
(FR) Cette invention concerne un procédé de dépôt en phase vapeur comprenant : une étape de fixation consistant à fixer un masque de dépôt en phase vapeur (3) sur un cadre de masque (2) ; une étape d'élévation consistant à placer un substrat (4) sur le masque de dépôt en phase vapeur (3) et soulever le cadre de masque (2) de telle sorte que le substrat (4) entre en contact avec un panneau à affleurement (5) disposé au-dessus du cadre de masque (2) ; et une étape de mesure consistant à mesurer l'épaisseur du cadre de masque (2). À l'étape d'élévation, la grandeur d'élévation du cadre de masque (2) est déterminée sur la base de l'épaisseur du cadre de masque (2) mesurée à l'étape de mesure.
(JA) 蒸着方法は、マスクフレーム(2)上に蒸着マスク(3)を固定する固定工程と、蒸着マスク(3)上に基板(4)を載置し、マスクフレーム(2)の上方に配置されたタッチプレート(5)に基板(4)が接触するようにマスクフレーム(2)を上昇させる上昇工程と、マスクフレーム(2)の厚みを測定する測定工程を包含し、上昇工程が、測定工程により測定されたマスクフレーム(2)の厚みに基づいて、マスクフレーム(2)の上昇量を決定する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)