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1. (WO2018211355) 表示装置およびその作製方法

Pub. No.:    WO/2018/211355    International Application No.:    PCT/IB2018/053169
Publication Date: Fri Nov 23 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed May 09 01:59:59 CEST 2018
IPC: H05B 33/04
G09F 9/30
H01L 27/32
H01L 51/50
H05B 33/06
H05B 33/10
H05B 33/26
Applicants: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
株式会社半導体エネルギー研究所
Inventors: NAGATA, Takaaki
永田貴章
SAKUISHI, Tatsuya
作石達哉
YOKOYAMA, Kohei
横山浩平
JINBO, Yasuhiro
神保安弘
NAKANO, Masaru
中野賢
YAMASHITA, Akio
山下晃央
Title: 表示装置およびその作製方法
Abstract:
要約書 低価格の表示装置を提供する。 第1の基板上に、 トランジスタと、 第1の導電層と、 を形成し、 トランジスタおよび第1の導電層と 重なる領域を有するように、 第1の絶縁層を形成する。 次に、 第1の絶縁層に、 トランジスタのソー スまたはドレインの一方に達する第1の開口部と、第1の導電層に達する第2の開口部と、を形成し、 第1の開口部に第2の導電層を、 第2の開口部に第3の導電層をそれぞれ形成する。 続いて、 第2の 導電層と重なる領域を有する発光層と、 第3の導電層と重なる領域を有する有機層と、 を同一の工程 で形成し、 第1の基板の、 トランジスタが形成されている面と、 第2の基板とを、 接着層を用いて貼 り合わせる。その後、第3の導電層と重なる領域に設けられた、第2の基板、接着層、および有機層 を分離し、第3の導電層と電気的に接続されるように、外部入力端子を形成する。