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1. (WO2018207676) サーミスタ膜およびその成膜方法
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国際公開番号: WO/2018/207676 国際出願番号: PCT/JP2018/017307
国際公開日: 15.11.2018 国際出願日: 27.04.2018
IPC:
H01C 7/04 (2006.01) ,C01G 53/00 (2006.01) ,H01C 17/20 (2006.01) ,G01K 7/22 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
C
抵抗器
7
1以上の層または被覆状に形成された非可調整抵抗器;粉末絶縁材料を含むかまたは含まない粉末導電材料または粉末半導体材料で形成された非可調整抵抗器
04
負温度係数をもつもの
C 化学;冶金
01
無機化学
G
サブクラスC01DまたはC01Fに包含されない金属を含有する化合物
53
ニッケル化合物
H 電気
01
基本的電気素子
C
抵抗器
17
抵抗器を製造するために特に適用される装置または方法
06
基板上に抵抗物質を被覆するために適用されるもの
20
熱分解方法によるもの
G 物理学
01
測定;試験
K
温度の測定;熱量の測定;他に分類されない感温素子
7
熱に直接感応する電気的または磁気的素子の使用を基礎とした温度測定
16
抵抗素子を使うもの
22
素子が非線形抵抗体,例.サーミスタ,であるもの
出願人:
株式会社FLOSFIA FLOSFIA INC. [JP/JP]; 京都府京都市西京区御陵大原1番36号 1-36, Goryoohara, Nishikyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6158245, JP
発明者:
柳生 慎悟 YAGYU Shingo; JP
佐々木 貴博 SASAKI Takahiro; JP
人羅 俊実 HITORA Toshimi; JP
優先権情報:
2017-09281009.05.2017JP
発明の名称: (EN) THERMISTOR FILM AND METHOD FOR FORMING SAME
(FR) FILM DE THERMISTANCE ET SON PROCÉDÉ DE FORMATION
(JA) サーミスタ膜およびその成膜方法
要約:
(EN) Provided are: a thermistor film having excellent thermistor characteristics as well as high mechanical strength; and a method for forming the thermistor film. Under predetermined film-forming conditions, a carrier gas is supplied to a mist or droplets obtained by atomizing or dropletizing a raw solution for a thermistor film, the mist or droplets are transported to a substrate, and then the mist or droplets are thermally reacted on the substrate to form a film. Thus, each of: an epitaxial film having excellent thermistor characteristics; a thermistor thin film having a film thickness of 1 µm or less; a thermistor film which has a film width of 5 mm or less and a film thickness of 50 nm to 5 µm, and in which the film thickness distribution at a film width of 5 mm is within a range of less than ±50 nm; and a thermistor film having a film thickness of 50 nm to 5 µm and a film surface roughness (Ra) of 0.1 µm or less are obtained.
(FR) L'invention concerne : un film de thermistance ayant d'excellentes caractéristiques de thermistance ainsi qu'une résistance mécanique élevée ; et un procédé de formation du film de thermistance. Dans des conditions de formation de film prédéterminées, un gaz vecteur est fourni à une brume ou à des gouttelettes obtenues par atomisation ou pulvérisation d'une solution brute pour un film de thermistance, la brume ou les gouttelettes sont transportés vers un substrat, puis la brume ou les gouttelettes réagissent thermiquement sur le substrat pour former un film. Ainsi, chacun des éléments suivants : un film épitaxial ayant d'excellentes caractéristiques de thermistance ; un film mince de thermistance ayant une épaisseur de film de 1 µm ou moins ; un film de thermistance qui a une largeur de film de 5 mm ou moins et une épaisseur de film de 50 nm à 5 µm, et dans lequel la distribution d'épaisseur de film à une largeur de film de 5 mm s'inscrit dans une plage inférieure à ± 50 nm ; et un film de thermistance ayant une épaisseur de film de 50 nm à 5 µm et une rugosité de surface de film (Ra) de 0,1 µm ou moins, sont obtenus.
(JA) サーミスタ特性に優れ、機械的強度にも強いサーミスタ膜およびその成膜方法を提供する。所定の成膜条件で、サーミスタ膜の原料溶液を霧化または液滴化し、得られたミストまたは液滴に対し、キャリアガスを供給して、前記ミストまたは液滴を基体まで搬送し、ついで前記ミストまたは液滴を前記基体上で熱反応させて成膜して、サーミスタ特性に優れたエピタキシャル膜、膜厚が1μm以下のサーミスタ薄膜、膜幅が5mm以上であり、膜厚が50nm以上5μm以下であり、さらに、膜幅5mmにおける前記膜厚の分布が±50nm未満の範囲内のサーミスタ膜、および膜厚が50nm以上5μm以下であり、さらに、膜の表面粗さ(Ra)が0.1μm以下であるサーミスタ膜をそれぞれ得る。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)