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1. (WO2018207672) 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体

Pub. No.:    WO/2018/207672    International Application No.:    PCT/JP2018/017244
Publication Date: Fri Nov 16 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Apr 28 01:59:59 CEST 2018
IPC: H01L 21/027
B05C 11/08
B05C 11/10
B05D 1/40
B05D 3/00
G03F 7/16
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
Inventors: TSUTSUI Tsutomu
筒井 努
Title: 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
Abstract:
塗布・現像装置2は、回転保持部20と、処理液供給用のノズル31と、ノズル搬送部40と、制御部100とを備える。制御部100は、ウェハWを第一回転速度で回転させるように回転保持部20を制御することと、ウェハWが第一回転速度で回転している状態にて、ノズル31からの処理液の到達位置をウェハWの周縁Wcの外から内に移動させた後、ウェハWの周縁Wcの内から外に移動させるようにノズル搬送部40を制御することと、その後、ウェハWを第一回転速度よりも低い第二回転速度で回転させるように回転保持部20を制御することと、その後、ウェハWを第一回転速度よりも高い第三回転速度で回転させるように回転保持部20を制御することと、を実行するように構成されている。