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1. (WO2018207616) 真空処理装置

Pub. No.:    WO/2018/207616    International Application No.:    PCT/JP2018/016659
Publication Date: Fri Nov 16 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed Apr 25 01:59:59 CEST 2018
IPC: H01L 21/677
C23C 14/50
C23C 14/56
C23C 16/44
C23C 16/54
H01L 21/3065
H01L 21/31
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
Inventors: SAKAUE, Hiromitsu
阪上 博充
Title: 真空処理装置
Abstract:
【課題】真空処理装置において、装置を小型化すると共に、基板のスループットを向上させること。 【解決手段】真空処理装置において、ロードロック室3A、3Bを常圧搬送室2に接続するにあたって、搬入出ポート1側を前方、常圧搬送室2側を後方とすると常圧搬送室2におけるウエハWの移動範囲の前後方向の位置と、ロードロック室3A、3Bの前後方向の位置とが重なるように配置している。また常圧搬送室の後方に真空搬送室9を接続し、搬入出ポート1から見て真空搬送室9の左右に真空処理モジュール4を各々3台ずつ前後に並べて接続している。また各真空処理モジュール4に真空処理部400A,400Bを各々真空搬送室9側から見て、手前側及び奥側に並べて配置している。さらにロードロック室3A、3BにウエハWを保持するウエハ載置棚300A、300Bを、真空搬送室9側から見て、手前側及び奥側に並べて配置している。