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1. (WO2018207525) 基板処理装置および基板処理装置のメンテナンス方法
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国際公開番号: WO/2018/207525 国際出願番号: PCT/JP2018/014927
国際公開日: 15.11.2018 国際出願日: 09.04.2018
IPC:
H01L 21/304 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
[IPC code unknown for H01L 21/304][IPC code unknown for H01L 21/027]
出願人:
株式会社SCREENホールディングス SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神北町1番地の1 Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585, JP
発明者:
中井 仁司 NAKAI, Hitoshi; JP
代理人:
松阪 正弘 MATSUSAKA, Masahiro; JP
田中 勉 TANAKA, Tsutomu; JP
井田 正道 IDA, Masamichi; JP
優先権情報:
2017-09538112.05.2017JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR MAINTAINING SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET SON PROCÉDÉ D'ENTRETIEN
(JA) 基板処理装置および基板処理装置のメンテナンス方法
要約:
(EN) A processing liquid supply unit (5) of a substrate processing device (1) discharges a processing liquid. A liquid discharge unit (60) discharges the processing liquid from the processing liquid supply unit (5) to the outside of a chamber (11). A cleaning liquid supply unit (63) supplies a cleaning liquid to the liquid discharge unit (60). A detection unit (64) acquires from the liquid discharge unit (60) a maintenance necessity level indicating the level of necessity of maintenance of the liquid discharge unit (60). If the maintenance necessity level acquired by the detection unit (64) is not less than a first threshold value and less than a second threshold value, a control unit (71) causes the cleaning liquid supply unit (63) to supply the cleaning liquid to the liquid discharge unit (60). If the maintenance necessity level acquired by the detection unit (64) is not less than the second threshold value, the control unit (71) issues a warning signal. Thus, when maintenance becomes necessary due to the presence of dirt or clogging in the liquid discharge unit (60), maintenance of the liquid discharge unit (60) can be performed automatically and in a preferable manner.
(FR) Selon l'invention, une unité d'alimentation en liquide de traitement (5) d'un dispositif de traitement de substrat (1) évacue un liquide de traitement. Une unité d’évacuation de liquide (60) évacue le liquide de traitement de l'unité d'alimentation en liquide de traitement (5) à l'extérieur d'une chambre (11). Une unité d'alimentation en liquide de nettoyage (63) fournit un liquide de nettoyage à l'unité d’évacuation de liquide (60). Une unité de détection (64) obtient à partir de l'unité d’évacuation de liquide (60) un niveau de nécessité d'entretien indiquant le niveau de nécessité d'entretien de l'unité d’évacuation de liquide (60). Si le niveau de nécessité d'entretien obtenu par l'unité de détection (64) n'est pas inférieur à une première valeur seuil et est inférieur à une seconde valeur seuil, une unité de commande (71) amène l'unité d'alimentation en liquide de nettoyage (63) à fournir le liquide de nettoyage à l'unité d’évacuation de liquide (60). Si le niveau de nécessité d'entretien obtenu par l'unité de détection (64) n'est pas inférieur à la seconde valeur seuil, l'unité de commande (71) émet un signal d'avertissement. Ainsi, quand un entretien devient nécessaire en raison de la présence de saleté ou d'une obstruction dans l'unité d'évacuation de liquide (60), l'entretien de cette dernière peut être effectué automatiquement et d'une manière préférentielle.
(JA) 基板処理装置(1)の処理液供給部(5)は、処理液を吐出する。排液部(60)は、処理液供給部(5)からの処理液をチャンバ(11)の外部へと排出する。洗浄液供給部(63)は、排液部(60)に洗浄液を供給する。検出部(64)は、排液部(60)のメンテナンスの必要性の程度を示すメンテナンス必要度を、排液部(60)から取得する。検出部(64)により取得されたメンテナンス必要度が第1閾値以上かつ第2閾値未満である場合、制御部(71)は、洗浄液供給部(63)から排液部(60)に洗浄液を供給させる。検出部(64)により取得されたメンテナンス必要度が第2閾値以上である場合、制御部(71)は警告信号を発する。これにより、排液部(60)に汚れや詰まりが生じてメンテナンスが必要となった場合に、排液部(60)のメンテナンスを自動的にかつ好適に行うことができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)