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1. (WO2018207508) ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法
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国際公開番号: WO/2018/207508 国際出願番号: PCT/JP2018/014506
国際公開日: 15.11.2018 国際出願日: 05.04.2018
IPC:
B32B 9/00 (2006.01) ,C23C 16/42 (2006.01) ,C23C 16/50 (2006.01)
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9
本質的にグループ11/00~29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
22
金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの
30
化合物,混合物または固溶体の析出,例.ほう化物,炭化物,窒化物
42
けい化物
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
50
放電を用いるもの
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
岩瀬 英二郎 IWASE Eijiro; JP
江夏 泰雄 ENATSU Yasuo; JP
代理人:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
優先権情報:
2017-09583312.05.2017JP
発明の名称: (EN) GAS BARRIER FILM AND METHOD FOR PRODUCING GAS BARRIER FILM
(FR) FILM BARRIÈRE CONTRE LES GAZ ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM BARRIÈRE CONTRE LES GAZ
(JA) ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法
要約:
(EN) Provided are: a gas barrier film which has excellent gas barrier properties; and a method for producing this gas barrier film. This gas barrier film comprises: a supporting body; and one or more combinations of an inorganic layer containing silicon and a base layer for the inorganic layer. The base layer contains a polymerized product of an alkoxysilane; and a mixed layer that contains components of both the inorganic layer and the base layer is arranged between the inorganic layer and the base layer. A method for producing a gas barrier film according to the present invention comprises: a step for forming a base layer by applying and heating a coating liquid that contains an alkoxysilane; and a step for forming an inorganic layer on the base layer by means of plasma CVD, while applying a bias potential to the base layer.
(FR) L'invention concerne: un film barrière contre les gaz qui a d'excellentes propriétés de barrière contre les gaz; et un procédé de fabrication d'un tel film barrière contre les gaz. Ce film barrière contre les gaz comprend: un corps de support; et une ou plusieurs combinaisons d'une couche inorganique contenant du silicium et d'une couche de base pour la couche inorganique. La couche de base contient un produit polymérisé d'un alcoxysilane; et une couche mixte qui contient des composants à la fois de la couche inorganique et de la couche de base est disposée entre la couche inorganique et la couche de base. Un procédé de production d'un film barrière contre les gaz selon la présente invention comprend: une étape consistant à former une couche de base par application et chauffage d'un liquide de revêtement qui contient un alcoxysilane; et une étape consistant à former une couche inorganique sur la couche de base au moyen d'un CVD par plasma, tout en appliquant un potentiel de polarisation à la couche de base.
(JA) 優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルム、および、このガスバリアフィルムの製造方法を提供する。ガスバリアフィルムは、支持体と、ケイ素を含む無機層および無機層の下地層の組み合わせの1組以上とを有し、下地層はアルコキシシランの重合物を含み、無機層と下地層との間に、無機層と下地層との両方の成分を含む混合層を有する。ガスバリアフィルムの製造方法は、アルコキシシランを含有する塗布液を塗布、加熱して下地層を形成する工程、および、下地層にバイアス電位を印加しつつ、プラズマCVDで下地層に無機層を形成する工程、を含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)