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1. (WO2018207431) NMP水溶液の精製システム及び精製方法
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国際公開番号: WO/2018/207431 国際出願番号: PCT/JP2018/006954
国際公開日: 15.11.2018 国際出願日: 26.02.2018
IPC:
B01D 61/36 (2006.01) ,B01D 19/00 (2006.01) ,B01D 53/22 (2006.01) ,B01D 61/00 (2006.01) ,B01D 61/14 (2006.01) ,B01D 61/58 (2006.01) ,B01D 71/02 (2006.01) ,C01B 39/14 (2006.01) ,C01B 39/24 (2006.01) ,C01B 39/26 (2006.01) ,C01B 39/30 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
36
パーベーパレーション(浸透気化);膜蒸留;液透過
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
19
液体の脱気
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
53
ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
22
拡散によるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
14
限外ろ過;精密ろ過
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
58
多段階工程
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
02
無機材料
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
39
分子ふるい特性と塩基交換特性を有する化合物,例.結晶性ゼオライト;その製造;後処理,例.イオン交換または脱アルミニウム
02
結晶性アルミノけい酸塩ゼオライト;その同形置換化合物;その直接製造;もう一つの型の結晶性ゼオライトを含む反応混合物から,または前もって形成された反応物質からの製造:その後処理
14
A型
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
39
分子ふるい特性と塩基交換特性を有する化合物,例.結晶性ゼオライト;その製造;後処理,例.イオン交換または脱アルミニウム
02
結晶性アルミノけい酸塩ゼオライト;その同形置換化合物;その直接製造;もう一つの型の結晶性ゼオライトを含む反応混合物から,または前もって形成された反応物質からの製造:その後処理
20
フォージャサイト型,例.X型またはY型
24
Y型
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
39
分子ふるい特性と塩基交換特性を有する化合物,例.結晶性ゼオライト;その製造;後処理,例.イオン交換または脱アルミニウム
02
結晶性アルミノけい酸塩ゼオライト;その同形置換化合物;その直接製造;もう一つの型の結晶性ゼオライトを含む反応混合物から,または前もって形成された反応物質からの製造:その後処理
26
モルデナイト型
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
39
分子ふるい特性と塩基交換特性を有する化合物,例.結晶性ゼオライト;その製造;後処理,例.イオン交換または脱アルミニウム
02
結晶性アルミノけい酸塩ゼオライト;その同形置換化合物;その直接製造;もう一つの型の結晶性ゼオライトを含む反応混合物から,または前もって形成された反応物質からの製造:その後処理
30
エリオナイトまたはオフレタイト型,例.ゼオライトT
出願人:
オルガノ株式会社 ORGANO CORPORATION [JP/JP]; 東京都江東区新砂1丁目2番8号 2-8, Shinsuna 1-chome, Koto-ku, Tokyo 1368631, JP
発明者:
寺師 亮輔 TERASHI Ryosuke; JP
山田 響介 YAMADA Kyosuke; JP
日比 聡 HIBI Akira; JP
代理人:
宮崎 昭夫 MIYAZAKI Teruo; JP
緒方 雅昭 OGATA Masaaki; JP
優先権情報:
2017-09393510.05.2017JP
発明の名称: (EN) NMP AQUEOUS SOLUTION PURIFICATION SYSTEM AND PURIFICATION METHOD
(FR) SYSTÈME DE PURIFICATION DE SOLUTION AQUEUSE NMP ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION
(JA) NMP水溶液の精製システム及び精製方法
要約:
(EN) In this NMP aqueous solution purification system 1, the generation of peroxides of NMP is suppressed. This NMP aqueous solution purification system 1 is provided with: a pervaporation membrane device 201 for removing water from an NMP aqueous solution to prepare an NMP concentrated solution; containers 101, 103, 106, 301 which is provided on the upstream side or the downstream side of the pervaporation membrane device 201 and stores the NMP aqueous solution or the NMP concentrated solution; and inert gas supply means L401-405, U402-U405 for filling gas phase parts of the containers 101, 103, 106, 301 with inert gas.
(FR) Dans ce système de purification de solution aqueuse de NMP (1), la génération de peroxydes de NMP est supprimée. Ce système de purification de solution aqueuse de NMP (1) comprend: un dispositif de membrane de pervaporation (201) pour éliminer l'eau d'une solution aqueuse de NMP afin de préparer une solution concentrée de NMP; des récipients (101,103,106, 301) qui sont disposés sur le côté amont ou le côté aval du dispositif de membrane de pervaporation (201) et stockent la solution aqueuse de NMP ou la solution concentrée de NMP; et des moyens d'alimentation en gaz inerte (L401-405, U402-U405) pour remplir des parties de phase gazeuse des récipients (101,103,106, 301) avec un gaz inerte.
(JA) NMP水溶液の精製システム1において、NMPの過酸化物の生成を抑制する。 NMP水溶液の精製システム1は、NMP水溶液から水を除去してNMP濃縮液を生成する浸透気化膜装置201と、浸透気化膜装置201の上流または下流に設けられ、NMP水溶液またはNMP濃縮液が貯留される容器101,103,106,301と、容器101,103,106,301の気相部を不活性ガスで充填する不活性ガス供給手段L401~405、U402~U405と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)