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1. (WO2018207310) 位置測定方法及び部品
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国際公開番号: WO/2018/207310 国際出願番号: PCT/JP2017/017867
国際公開日: 15.11.2018 国際出願日: 11.05.2017
IPC:
G01B 11/00 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11
光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
出願人:
ナルックス株式会社 NALUX CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市東淀川区南江口3丁目4番29号 3-4-29, Minami-eguchi, Higashi-yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5330003, JP
発明者:
藤岡 孝弘 FUJIOKA, Takahiro; JP
堀切 宏則 HORIKIRI, Hironori; JP
池田 賢元 IKEDA, Katsumoto; JP
代理人:
伏見 直哉 FUSHIMI, Naoya; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) POSITION MEASUREMENT METHOD AND COMPONENT
(FR) PROCÉDÉ ET COMPOSANT DE MESURE DE POSITION
(JA) 位置測定方法及び部品
要約:
(EN) Provided is a position measurement method for highly accurately determining the position of a lens, or the like, using a position reference part of a component. In this position measurement method, the position of a given point in an image of a measurement device provided with an imaging optical system using coaxial epi-illumination is determined using the position of a position reference part as a reference. At least a base part of the position reference part has a columnar shape. A groove of a fixed width is provided around the base of the column 115. The bottom surface 121 of the groove is parallel to a flat surface. An inclined surface 123 that rises from the bottom surface at an angle θ in relation to the bottom surface and reaches the flat surface is provided at the outer circumferential edge of the bottom surface. This method includes, in an image of the measurement device, determining the position of the circumferential edge of the base of the column from the position of the outer circumferential edge E of the bottom surface and the position of a reflected image E' of the outer circumferential edge, determining the position of the position reference part from the position of the circumferential edge of the base of the column, and determining the position of the given point using the position of the position reference part as a reference.
(FR) La présente invention concerne un procédé de mesure de position permettant de déterminer avec une grande précision la position d'une lentille, ou d'un objet analogue, à l'aide d'une partie de référence de position d'un composant. Dans ce procédé de mesure de position, la position d'un point donné sur une image d'un dispositif de mesure pourvu d'un système optique d'imagerie utilisant l'épi-éclairage coaxial est déterminée en utilisant la position d'une partie de référence de position comme référence. Au moins une partie de base de la partie de référence de position présente une forme en colonne. Une rainure d'une largeur fixe se trouve autour de la base de la colonne 115. La surface inférieure 121 de la rainure est parallèle à une surface plate. Une surface inclinée 123 qui s'élève à partir de la surface inférieure à un angle θ par rapport à la surface inférieure et atteint la surface plate se trouve au niveau du bord circonférentiel externe de la surface inférieure. Le procédé de l'invention comprend, sur une image du dispositif de mesure, la détermination de la position du bord circonférentiel de la base de la colonne à partir de la position du bord circonférentiel externe E de la surface inférieure et de la position d'une image réfléchie E' du bord circonférentiel externe, la détermination de la position de la partie de référence de position à partir de la position du bord circonférentiel de la base de la colonne, et la détermination de la position du point donné en utilisant la position de la partie de référence de position comme référence.
(JA) 部品の位置基準部を使用して、レンズなどの位置を高い精度で求める位置測定方法を提供する。位置測定方法は、同軸落射照明を使用する撮像光学系を備えた測定装置の画像において、該位置基準部の位置を基準として該任意の点の位置を定める。該位置基準部は、少なくとも根元の部分が柱状であり、柱115の根元の周囲に一定の幅の溝を備え、該溝の底面121は該平面に平行であり、該底面の外側の周縁には、該底面から該底面に対して角度θで立ち上がり、該平面に至る傾斜面123を備える。本方法は、該測定装置の画像において、該底面の外側の周縁Eの位置、及び該外側の周縁の反射像E'の位置から、該柱の根元の周縁の位置を定めるステップと、該柱の根元の周縁の位置から該位置基準部の位置を定めるステップと、該位置基準部の位置を基準として該任意の点の位置を定めるステップと、を含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)