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1. (WO2018203508) 加工装置及び加工方法
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国際公開番号: WO/2018/203508 国際出願番号: PCT/JP2018/016986
国際公開日: 08.11.2018 国際出願日: 26.04.2018
IPC:
B23K 26/08 (2014.01)
B 処理操作;運輸
23
工作機械;他に分類されない金属加工
K
ハンダ付またはハンダ離脱;溶接;ハンダ付または溶接によるクラッドまたは被せ金;局部加熱による切断,例.火炎切断:レーザービームによる加工
26
レーザービームによる加工,例.溶接,切断,穴あけ
08
レーザービームと加工物の相対移動を有する装置
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
柴崎 祐一 SHIBAZAKI, Yuichi; JP
代理人:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
優先権情報:
PCT/JP2017/01711901.05.2017JP
発明の名称: (EN) PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT
(JA) 加工装置及び加工方法
要約:
(EN) A processing apparatus provided with: a first stage system having a table (12) on which a workpiece (W) is mounted, the first stage system moving the workpiece retained on the table; a beam irradiation system (500) including a condensing optical system (530) for emitting a beam (LB); and a control device for controlling the first stage system and the irradiation system; processing being performed on a target portion of the workpiece while the table and the beam from the condensing optical system are moved in a relative manner, and it being possible to change the intensity distribution of the beam on a first surface (MP) on an emission-surface side of the condensing optical system and/or the intensity distribution of the beam on a second surface in a different position in the optical axis (AX) direction of the condensing optical system than the first surface.
(FR) La présente invention concerne un appareil de traitement qui comprend : un système de premier étage ayant une table (12) sur laquelle est montée une pièce (W), le système de premier étage déplaçant la pièce maintenue sur la table ; un système (500) d'exposition à un rayonnement de faisceau comprenant un système optique de condensation (530) permettant d'émettre un faisceau (LB) ; et un dispositif de commande permettant de commander le système de premier étage et le système d'exposition à un rayonnement ; le traitement étant effectué sur une partie cible de la pièce tandis que la table et le faisceau provenant du système optique de condensation sont déplacés l'un par rapport à l'autre, et il est possible de modifier la répartition de l'intensité du faisceau sur une première surface (MP) sur un côté de surface d'émission du système optique de condensation et/ou la répartition de l'intensité du faisceau sur une seconde surface dans une position différente dans la direction de l'axe optique (AX) du système optique de condensation de celle de la première surface.
(JA) 加工装置は、ワーク(W)が載置されるテーブル(12)を有し、テーブルに保持されたワークを移動する第1ステージシステムと、ビーム(LB)を射出する集光光学系(530)を含むビーム照射システム(500)と、第1ステージシステムと照射システムとを制御する制御装置と、を備え、テーブルと集光光学系からのビームとを相対移動させつつワークの目標部位に対して加工が行われ、集光光学系の射出面側の第1面(MP)におけるビームの強度分布、及び、集光光学系の光軸(AX)方向の位置が第1面と異なる第2面におけるビームの強度分布の少なくとも一方が変更可能である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)