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1. (WO2018199071) 弾性波装置の製造方法及び弾性波装置
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国際公開番号: WO/2018/199071 国際出願番号: PCT/JP2018/016563
国際公開日: 01.11.2018 国際出願日: 24.04.2018
IPC:
H03H 3/08 (2006.01) ,H03H 9/145 (2006.01)
H 電気
03
基本電子回路
H
インビーダンス回路網,例.共振回路;共振器
3
インピーダンス回路網,共振回路,共振器の製造に特有な装置または工程
007
電気機械的共振器または回路網の製造のためのもの
08
弾性表面波を用いる共振器または回路網の製造のためのもの
H 電気
03
基本電子回路
H
インビーダンス回路網,例.共振回路;共振器
9
電気機械的または電気音響的素子を含む回路網;電気機械的共振器
02
細部
125
駆動手段,例.電極,コイル
145
弾性表面波を用いる回路網のためのもの
出願人:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
発明者:
中井 康晴 NAKAI, Yasuharu; JP
堀川 晴信 HORIKAWA, Harunobu; JP
代理人:
特許業務法人 宮▲崎▼・目次特許事務所 MIYAZAKI & METSUGI; 大阪府大阪市中央区常盤町1丁目3番8号 中央大通FNビル Chuo Odori FN Bldg., 3-8, Tokiwamachi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400028, JP
優先権情報:
2017-08912528.04.2017JP
発明の名称: (EN) ACOUSTIC WAVE DEVICE MANUFACTURING METHOD AND ACOUSTIC WAVE DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF À ONDES ACOUSTIQUES ET DISPOSITIF À ONDES ACOUSTIQUES
(JA) 弾性波装置の製造方法及び弾性波装置
要約:
(EN) Provided is an acoustic wave device manufacturing method with which a resist residue is less likely to remain and degradation in electric characteristics is less likely to occur, and which makes it possible to increase productivity. An acoustic wave device 1 manufacturing method is a method for manufacturing an acoustic wave device 1 having an IDT electrode 3 and is provided with: a step of preparing a piezoelectric substrate 2; a step of forming on the piezoelectric substrate 2 a first inner bus bar 4a, a plurality of first electrode fingers 4b, a second inner bus bar 5a, a plurality of second electrode fingers 5b, a plurality of first connection electrodes 4c, and a plurality of second connection electrodes 5c by a lift-off process; a step of forming a first bus bar 14 having a plurality of first opening portions 8 by forming a first outer bus bar 6 on the piezoelectric substrate 2 so as to cover a part of the plurality of first connection electrodes 4c; and a step of forming a second bus bar 15 having a plurality of second opening portions 9 by forming a second outer bus bar 7 on the piezoelectric substrate 2 so as to cover a part of the plurality of second connection electrodes 5c.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication de dispositif à ondes acoustiques avec lequel un résidu de réserve est moins susceptible de rester et la dégradation des caractéristiques électriques est moins susceptible de se produire, et qui permet d'augmenter la productivité. Un procédé de fabrication de dispositif à ondes acoustiques 1 est un procédé de fabrication d'un dispositif à ondes acoustiques 1 ayant une électrode IDT 3 et comprend : une étape de préparation d'un substrat piézoélectrique 2 ; une étape de formation sur le substrat piézoélectrique 2 d'une première barre omnibus interne 4a, d'une pluralité de premiers doigts d'électrode 4b, d'une seconde barre omnibus interne 5a, d'une pluralité de seconds doigts d'électrode 5b, d'une pluralité de premières électrodes de connexion 4c, et d'une pluralité de secondes électrodes de connexion 5c par un processus de décollement ; une étape de formation d'une première barre omnibus 14 ayant une pluralité de premières parties d'ouverture 8 en formant une première barre omnibus externe 6 sur le substrat piézoélectrique 2 de manière à recouvrir une partie de la pluralité de premières électrodes de connexion 4c ; et une étape de formation d'une seconde barre omnibus 15 ayant une pluralité de secondes parties d'ouverture 9 par formation d'une seconde barre omnibus externe 7 sur le substrat piézoélectrique 2 de manière à recouvrir une partie de la pluralité de secondes électrodes de connexion 5c.
(JA) レジストの残渣が生じ難く、電気的特性の劣化を生じ難くすることができ、かつ生産性を高めることができる、弾性波装置の製造方法を提供する。 弾性波装置1の製造方法は、IDT電極3を有する弾性波装置1の製造方法であって、圧電基板2を用意する工程と、圧電基板2上に、第1の内側バスバー4aと、複数の第1の電極指4bと、第2の内側バスバー5aと、複数の第2の電極指5bと、複数の第1の接続電極4cと、複数の第2の接続電極5cとをリフトオフ法により形成する工程と、複数の第1の接続電極4cの一部を覆うように、圧電基板2上に第1の外側バスバー6を形成することにより、複数の第1の開口部8を有する第1のバスバー14を形成する工程と、複数の第2の接続電極5cの一部を覆うように、圧電基板2上に第2の外側バスバー7を形成することにより、複数の第2の開口部9を有する第2のバスバー15を形成する工程とを備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)